2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、衍射光柵是一種重要的光學(xué)器件,在許多研究領(lǐng)域和工程項(xiàng)目中都有著廣泛的應(yīng)用,在這其中對(duì)大尺寸衍射光柵的需求更為迫切。掃描干涉光刻憑借其高精度、高效率和靈活性等眾多優(yōu)點(diǎn),成為制造大尺寸衍射光柵的一種重要技術(shù)手段。掃描干涉光刻技術(shù)的主要難點(diǎn)在于如何對(duì)干涉場(chǎng)中干涉條紋進(jìn)行精準(zhǔn)重疊掃描和曝光拼接,制作出曝光均勻、對(duì)比度高和位相線性良好的衍射光柵。
  為了在掃描干涉光刻中實(shí)現(xiàn)精確的曝光拼接,本文主要做了以下工作:第一,曝光時(shí)需要在相鄰的一組

2、干涉條紋間做重疊掃描,從而將小尺寸的干涉條紋記錄在大面積的基板上。理想情況下工作平臺(tái)在沿垂直于干涉條紋方向的步進(jìn)運(yùn)動(dòng)中步長應(yīng)該是干涉條紋周期的整數(shù)倍,因此需要精確測(cè)量出干涉條紋周期數(shù)值。本文采用類似周期計(jì)數(shù)法的方法精確測(cè)量出干涉條紋周期數(shù)值,測(cè)量精度在10pm量級(jí);第二,鑒于單個(gè)平移臺(tái)位移精度有限,在實(shí)驗(yàn)中搭建了基于雙平移臺(tái)的H型工作平臺(tái),通過附加位姿校正方法獲得高位移精度。這里提出了基于二次多項(xiàng)式擬合的雙平移臺(tái)位姿校正方法用于提高雙平

3、移臺(tái)位移精度,在以100個(gè)干涉條紋周期為步長的步進(jìn)運(yùn)動(dòng)中,定位精度可達(dá)±10nm,偏航Y(jié)aw可以控制在±0.073μrad以內(nèi),為光柵刻寫提供了良好的位移精度;第三,系統(tǒng)中使用兩束高斯光束干涉產(chǎn)生的干涉條紋不是嚴(yán)格的平行等距直線,經(jīng)過掃描平均后殘留的位相非線性誤差會(huì)直接反映在刻寫光柵的柵線上,導(dǎo)致刻線誤差。因此本文使用相移干涉法對(duì)干涉場(chǎng)波前進(jìn)行測(cè)量,計(jì)算了干涉條紋位相非線性誤差,波前的PV值為0.05λ。
  干涉場(chǎng)干涉條紋周期測(cè)

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