近紅外光譜無創(chuàng)監(jiān)測局部腦氧飽和度在重型顱腦損傷術(shù)后治療中的應用研究.pdf

1、目的：通過近紅外光譜技術(shù)實時無創(chuàng)監(jiān)測重型顱腦損傷術(shù)后局部腦氧飽和度，探討局部腦氧飽和度的變化規(guī)律以及與顱內(nèi)壓（ICP）之間的相關(guān)性。
　　方法：選擇自2015年7月至2016年11月安徽醫(yī)科大學附屬安慶醫(yī)院24例重度顱腦損傷急診術(shù)后患者，采用近紅外光譜與有創(chuàng)顱內(nèi)壓監(jiān)測儀持續(xù)監(jiān)測局部腦氧飽和度（rScO2）、顱內(nèi)壓（ICP），同時使用多參數(shù)心電監(jiān)護儀監(jiān)測記錄脈氧飽和度（SpO2）、平均動脈壓（MAP）、腦灌注壓（CPP），采用SPS

2、S統(tǒng)計學分析監(jiān)測結(jié)果的關(guān)聯(lián)性。
　　結(jié)果：重度顱腦損傷預后程度和 rScO2有統(tǒng)計學意義，預后越好的組其rScO2值越高，術(shù)后 rScO2早期會出現(xiàn)下降，最后隨顱內(nèi)高壓緩解后再次呈上升趨勢。但4例死亡患者傷 rScO2主要呈下降趨勢，上升不明顯。rScO2與 ICP呈顯著負相關(guān)(r=-0.882，P<0.001)，rScO2與 CPP呈顯著正相關(guān)（r=0.938，P<0.001)。MAP與rScO2、ICP、CPP的線性相關(guān)無統(tǒng)計

3、學意義(P>0.05)，P值分別為0.173、0.135、0.171。在重型顱腦損傷患者治療過程中，MAP、S p O2基本維持在正常范圍內(nèi)，只有在患者處于瀕死狀態(tài)時進行性降低。
　　結(jié)論：盡管目前臨床上顱內(nèi)監(jiān)測方法以有創(chuàng)顱內(nèi)壓監(jiān)護為主，但其價格昂貴，有導致顱內(nèi)感染、出血甚至死亡的危險。而近紅外光譜技術(shù)具有無創(chuàng)、方便及精確等特點，可以準確無創(chuàng)監(jiān)測腦組織局部腦氧飽和度，rScO2對缺氧特別敏感，能及時反映重度顱腦損傷術(shù)后腦缺血缺氧等