偶氮苯聚合物光致異構(gòu)Z掃描研究.pdf

1、自上世紀(jì)90年代Sheik等人提出z掃描技術(shù)以來，由于實(shí)驗(yàn)裝置簡單，靈敏度高等優(yōu)點(diǎn)，該技術(shù)在材料光學(xué)參數(shù)測量方面得到廣泛應(yīng)用。本論文針對聚合物光致異構(gòu)效應(yīng)的特點(diǎn)，在較寬的應(yīng)用條件下，從理論上研究了光致異構(gòu)效應(yīng)對聚合物折射率改變的影響，并在此理論基礎(chǔ)上改進(jìn)了測量技術(shù)，從新的角度研究角度極化參數(shù)CT0，Cis-Trans狀態(tài)躍遷比率β和暗光強(qiáng)γ等對光致異構(gòu)效應(yīng)的定量影響。此外，本文還借助Z掃描測量技術(shù)，研究了目前在光信息處理方面有著廣泛應(yīng)用

2、前景的DR13／PMMA摻雜偶氮苯聚合物材料的光致異構(gòu)特性，分析生色團(tuán)摻雜濃度(重量濃度)對材料光致異構(gòu)效應(yīng)的影響。 本文由光致異構(gòu)過程的“角度燒孔”模型出發(fā)，直接推導(dǎo)適用光強(qiáng)范圍更廣的折射率變化公式，彌補(bǔ)了前人折射率改變公式只能適用于低光強(qiáng)條件之不足；本文引入角度極化參數(shù)CT0，Cis-Trans狀態(tài)躍遷比率β和暗光強(qiáng)γ等三個(gè)表征材料特性的參數(shù)。對這三個(gè)材料特征參數(shù)的測量分析可以對有機(jī)聚合物的光致異構(gòu)效應(yīng)進(jìn)行定量的研究，有助于