納米膠體射流拋光試驗(yàn)裝置研制及工藝試驗(yàn)研究.pdf

1、納米膠體射流拋光是一種新型超精密加工方法，對(duì)實(shí)現(xiàn)光學(xué)超光滑表面加工具有重要的研究和應(yīng)用價(jià)值。其實(shí)際拋光過程相當(dāng)復(fù)雜，材料去除機(jī)理需進(jìn)一步的深入研究。為了實(shí)現(xiàn)超光滑表面加工，必須能夠?qū)τ泊喙鈱W(xué)元件實(shí)現(xiàn)原子級(jí)去除。本文在研究射流拋光去除理論和流體動(dòng)力學(xué)理論的基礎(chǔ)上，對(duì)射流流場(chǎng)進(jìn)行了數(shù)值模擬，開發(fā)了一套超光滑表面加工試驗(yàn)裝置，并在此基礎(chǔ)上進(jìn)行工藝實(shí)驗(yàn)，研究了納米膠體射流拋光的主要工藝參數(shù)對(duì)材料去除率和表面粗糙度的影響。
　　本文主要進(jìn)行

2、了以下幾個(gè)方面的研究工作：
　　首先，在研究射流流場(chǎng)的基礎(chǔ)上，運(yùn)用FLUENT軟件對(duì)納米膠體射流拋光流場(chǎng)中流速及動(dòng)壓分布情況進(jìn)行了數(shù)值模擬，獲得了納米膠體射流拋光流速及動(dòng)壓與噴射距離的關(guān)系曲線。
　　其次，針對(duì)納米膠體射流拋光特性及加工技術(shù)指標(biāo)，研制了納米膠體射流拋光試驗(yàn)裝置?？刂葡到y(tǒng)在伺服電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下可實(shí)現(xiàn)四軸數(shù)控，拋光工具能夠沿Z軸移動(dòng)和繞B軸旋轉(zhuǎn)，工件能夠以適當(dāng)?shù)乃俣妊豖軸、Y軸移動(dòng)，該系統(tǒng)可以用于非球面的數(shù)控拋光。<