基于冒泡排序的非曼哈頓通道布線問題中的串擾最小化研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、當前集成電路產業(yè)向深亞微米工藝不斷推進,正力圖突破45nm大關.現(xiàn)有EDA工具難以應付復雜度呈指數(shù)增長的諸多VLSI電路設計難題,也缺乏對深亞微米工藝下一系列新問題的考慮.另一方面,在計算智能領域,各種優(yōu)化技術日新月異,為解決非NP和NP復雜度的大規(guī)模、超大規(guī)模問題展示了廣闊的前景.在中國21世紀初的"十五計劃"里,明確地把軟件產業(yè)和集成電路產業(yè)作為中國高科技的兩大重點發(fā)展方向.該文正是在這樣的背景下,研究非曼哈頓結構和性能驅動在深亞微

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