電解質(zhì)-等離子機床控制系統(tǒng)設(shè)計及工藝參數(shù)研究.pdf

1、電解質(zhì)-等離子拋光技術(shù)是一種優(yōu)于傳統(tǒng)拋光方法，可明顯降低復(fù)雜形狀的金屬制品表面粗糙度，達(dá)到很好的拋光效果。本文首先從電化學(xué)的角度，建立了微觀工藝模型，對控制系統(tǒng)提出了工藝控制要求。
　　本文根據(jù)100KW型設(shè)備的工藝控制要求和工業(yè)應(yīng)用要求，采用以可編程序控制器PLC為邏輯核心的控制系統(tǒng)，并對PLC控制系統(tǒng)進(jìn)行了深入的研究設(shè)計。首先進(jìn)行硬件總體設(shè)計，元件選型，模塊擴展構(gòu)架PLC硬件系統(tǒng)。結(jié)合加工工藝過程，用梯形圖設(shè)計控制系統(tǒng)程序?；?/p>

2、本功能采用開關(guān)量接觸器控制方式，特殊模塊采用先進(jìn)控制算法，主要包括溫度系統(tǒng)的模糊控制器、伺服驅(qū)動系統(tǒng)的數(shù)字PID控制器。
　　在此基礎(chǔ)之上，本文完成了對溫度系統(tǒng)的模糊控制器、伺服系統(tǒng)的數(shù)字PID控制器的設(shè)計和實現(xiàn)。首先對模糊控制理論、PID控制規(guī)律建立控制模型；模糊控制器采用瑪達(dá)尼（Mamdani）法和重心法將模糊規(guī)則推理成表，形成模糊控制表；PID控制器是對連續(xù)性PID算法進(jìn)行數(shù)字離散化，形成數(shù)字PID控制規(guī)律；在可視化HMI-