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1、超結(jié)構(gòu)光柵由于具有梳狀反射譜特性被廣泛用于密集波分復(fù)用(DWDM)系統(tǒng)的器件中,如基于超結(jié)構(gòu)光柵制作的多通道濾波器、色散補(bǔ)償器、復(fù)用/解復(fù)用器等。超結(jié)構(gòu)光柵可用于分布式布拉格反射器(DBR)型半導(dǎo)體激光器中,使激光器獲得寬范圍波長(zhǎng)可調(diào)。超結(jié)構(gòu)光柵器件性能與光柵制作密切相關(guān)。在現(xiàn)有的微納圖形制作技術(shù)中,納米壓印技術(shù)呈現(xiàn)出低成本、高分辨率和高效率等優(yōu)勢(shì),因而近幾年得到了廣泛的研究。
本論文圍繞超結(jié)構(gòu)光柵的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及納米壓印技術(shù)制備
2、超結(jié)構(gòu)光柵展開(kāi)了一系列的研究和探索。具體工作如下:
(1)基于傳輸矩陣方法建立了光柵特性分析的理論模型,利用該模型對(duì)超結(jié)構(gòu)光柵的反射譜特性進(jìn)行了模擬;重點(diǎn)研究了光柵反射譜平坦化技術(shù),并討論了光柵參數(shù)對(duì)其反射譜特性的影響。在此基礎(chǔ)上,設(shè)計(jì)了用于DBR型調(diào)諧半導(dǎo)體激光器反射器的取樣光柵與數(shù)字級(jí)聯(lián)光柵。
(2)在傳統(tǒng)的納米壓印工藝基礎(chǔ)上進(jìn)行了工藝改進(jìn),引入防粘技術(shù)與軟模版壓印技術(shù),獲得了大面積均勻的圖形壓印效果。同時(shí)采用自
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