數(shù)字光刻制作微光學(xué)器件的評價研究.pdf

1、微光學(xué)是一門正在興起的學(xué)科領(lǐng)域，它是研究一維、二維和三維的小型化光學(xué)器件和系統(tǒng)的一門高技術(shù)。它與微電子學(xué)、微機(jī)械、微加工、信息科學(xué)、材料科學(xué)等學(xué)科相互滲透，為現(xiàn)代光學(xué)研究前言的一個重要分支?！耙淮笠恍　笔窍冗M(jìn)光學(xué)制造技術(shù)的未來主要發(fā)展方向之一，微光學(xué)制造技術(shù)支撐微光學(xué)的發(fā)展，有可能為光學(xué)技術(shù)帶來革命性進(jìn)展，使傳統(tǒng)光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)微型化、陣列化和集成化，發(fā)展具有信息處理功能的集成光學(xué)組件。
　　目前，國內(nèi)外對微光學(xué)理論研究的重點(diǎn)主要放在

2、新型光學(xué)器件的理論分析和相位恢復(fù)算法的改進(jìn)。制作技術(shù)的研究主要集中于灰度掩模技術(shù)、激光或電子束直寫技術(shù)、VLSI的套刻技術(shù)三個方面。由于用VLSI技術(shù)制作對準(zhǔn)難度大、需要多次套刻、工序多，電子束直寫或激光直寫只適于單件制作且設(shè)備昂貴,因此，目前國內(nèi)外研究最有前途也是最多的微光學(xué)加工制造方法是灰度掩模法。
　　隨著微光學(xué)器件制作技術(shù)的不斷進(jìn)步以及各種微結(jié)構(gòu)的不斷出現(xiàn)，對制作系統(tǒng)誤差分析以及微光學(xué)器件的評價顯得尤為重要。
　　本

3、論文主要?dú)w納總結(jié)了國內(nèi)外微光學(xué)器件及其評價方法的研究現(xiàn)狀，詳細(xì)介紹了針對微光學(xué)器件的檢測技術(shù)。對于用來制作微光學(xué)器件的數(shù)字光刻系統(tǒng)，介紹了一些重要的組成部分：光源照明系統(tǒng)，數(shù)字微鏡裝置DMD的結(jié)構(gòu)、工作原理、特性，工件平臺以及精縮物鏡的結(jié)構(gòu)和特性。在介紹了數(shù)字光刻系統(tǒng)的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步分析數(shù)字光刻系統(tǒng)的誤差和數(shù)字光刻實驗中的誤差，包括照明系統(tǒng)誤差，DMD芯片的刷新頻率，像素量化，像素“抖動”以及像素間產(chǎn)生的“黑柵”效應(yīng)影響，光學(xué)系統(tǒng)，平臺