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1、貴金屬銥(Ir)具有高熔點(diǎn),優(yōu)異的高溫抗氧化性,是C/C復(fù)合材料最有希望的抗氧化零燒蝕涂層,但單獨(dú)的Ir涂層與基體的結(jié)合性及抗熱震性較差。采用鎢(W)作為界面層,可獲得結(jié)合強(qiáng)度高的W/Ir復(fù)合涂層,并可提高涂層的抗熱震性。本文采用雙層輝光等離子技術(shù)在C/C復(fù)合材料表面依次制備W涂層和Ir涂層,得到W/Ir復(fù)合涂層,并采用SEM、XRD等分析手段分析了涂層的組織結(jié)構(gòu)及微觀形貌,通過氧-乙炔焰燒蝕對(duì)復(fù)合涂層的燒蝕性能進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明
2、:采用雙輝技術(shù)在C/C復(fù)合材料表面制備的W涂層,其微觀形貌及力學(xué)性能都要優(yōu)于采用刷涂工藝制備的鎢涂層。在W表面制備Ir涂層的最優(yōu)雙輝工藝參數(shù)為:工件電壓-400V、源極電壓-800V、氣壓30Pa、極間距13mm,得到的Ir涂層均勻致密,無微觀缺陷,其衍射圖譜中Ir的(220)晶面擇優(yōu)取向明顯。采用雙輝技術(shù)在C/C復(fù)合材料表面制備的W/Ir復(fù)合涂層及單獨(dú)的銥涂層都呈現(xiàn)出明顯的(220)晶面擇優(yōu)生長(zhǎng),這與傳統(tǒng)的MOCVD、PVD等方法制備
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