軟刻蝕用母模板的聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備研究.pdf

1、聚二甲基硅氧烷（polydimethylsiloxane，以下簡稱 PDMS）軟模板在生物醫(yī)藥、物理化學(xué)等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用價值。而PDMS軟模板的制備源于母模板結(jié)構(gòu)的制造，因此制備出高分辨率、精細(xì)的三維母模板結(jié)構(gòu)是PDMS軟模板結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵。一般以光刻膠、Si和SiO2等作為母模板結(jié)構(gòu)，目前加工母模板結(jié)構(gòu)的方法有干涉光刻技術(shù)和電子束光刻技術(shù)等。但是這些方法制備PDMS軟刻蝕用母模板工藝復(fù)雜，需要旋涂光刻膠、曝光、顯影、定影和反應(yīng)離子束刻

2、蝕等步驟，并且其加工的結(jié)構(gòu)一般為準(zhǔn)三維結(jié)構(gòu)。
　　基于上述情況，本文提出利用聚焦離子束刻蝕技術(shù)制備PDMS軟刻蝕用母模板，并在Si基底上制備出15μm×15μm的輪廓清晰的三維結(jié)構(gòu)母模板，三甲基氯硅烷作為抗粘連層旋涂于Si基底表面，其后旋涂 PDMS預(yù)聚物復(fù)制模鑄出與Si基底表面圖案互補(bǔ)的三維結(jié)構(gòu)。
　　通過接觸角測量儀對Si基底表面疏水性能和用AFM對PDMS樣品表面形貌進(jìn)行表征。研究結(jié)果表明，特征圖形及小尺寸結(jié)構(gòu)都得到了