光學(xué)薄膜絕對(duì)反射率的高精度測(cè)量技術(shù)研究.pdf

1、隨著光學(xué)薄膜膜系設(shè)計(jì)理論和鍍膜技術(shù)的不斷成熟和完善，高反射率光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)和制備已經(jīng)成為現(xiàn)實(shí)，并且已經(jīng)廣泛應(yīng)用于激光技術(shù)的研究領(lǐng)域中，特別是在激光諧振腔中使用的高反膜鏡片對(duì)反射率要求更高。此外，在研究光學(xué)薄膜光學(xué)特性時(shí)其反射率是衡量薄膜光學(xué)特性的重要技術(shù)指標(biāo)?？梢哉f(shuō)光學(xué)薄膜反射率的精確測(cè)量已經(jīng)成為制約研究光學(xué)薄膜光學(xué)特性和高反射率光學(xué)薄膜制備與應(yīng)用的重要技術(shù)瓶頸。因此，對(duì)光學(xué)薄膜反射率的高精度測(cè)量技術(shù)研究具有重要的研究意義。 本

2、文首先對(duì)現(xiàn)有的各種反射率測(cè)量技術(shù)和方法進(jìn)行了介紹，并分析論述了各種測(cè)試方法的優(yōu)缺點(diǎn)和適用范圍，在對(duì)高反射率光學(xué)薄膜測(cè)量的測(cè)試量特性分析研究的基礎(chǔ)上提出了基于積分球的高反射率光學(xué)薄膜測(cè)試方案并進(jìn)行了理論論證和改進(jìn)完善。并具體展開(kāi)對(duì)本測(cè)試方案的實(shí)現(xiàn)，進(jìn)行的主要工作包括以下幾方面：首先根據(jù)測(cè)試原理，完成了測(cè)試光路系統(tǒng)的設(shè)計(jì)和搭建，主要包括積分球各參數(shù)的設(shè)計(jì)及積分球的制作，掃描振鏡的選擇和調(diào)試，掃描振鏡擺角的確定等；根據(jù)測(cè)試信號(hào)很微弱的特點(diǎn)，選

3、擇靈敏度很高的光電池作為光電轉(zhuǎn)換器件，設(shè)計(jì)了靈敏度很高的測(cè)試電路系統(tǒng)，主要包括光電轉(zhuǎn)換電路，帶通濾波電路和前級(jí)放大電路等的設(shè)計(jì)和制作；通過(guò)與集成鎖相放大器的連接和調(diào)試最終完成整體測(cè)試系統(tǒng)的調(diào)試，并對(duì)測(cè)試樣品進(jìn)行實(shí)際測(cè)試，驗(yàn)證其測(cè)試精度并對(duì)測(cè)試系統(tǒng)進(jìn)行了改進(jìn)和完善，標(biāo)定了系統(tǒng)的最終測(cè)試精度為0．05%，測(cè)試的高反膜鏡片反射率測(cè)試值最高為99．9%，對(duì)系統(tǒng)各部分的誤差影響因素進(jìn)行了定量分析，得出影響系統(tǒng)測(cè)試精度的主要誤差因素為整體測(cè)試電路的