非常偏振光在晶體內(nèi)表面反射與透射的研究.pdf

1、隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，用晶體制成的各種光學(xué)器件被越來越廣泛的應(yīng)用，尤其是在光電技術(shù)和通信領(lǐng)域。光在晶體中傳播的相關(guān)性質(zhì)是現(xiàn)代光學(xué)器件設(shè)計的重要理論依據(jù)。其中，光波在晶體界面上的菲涅耳反射是造成光學(xué)器件插入損耗的一個主要因素。因此，
　　 本論文利用折射率面和電磁場邊界條件，通過幾何作圖法，分析了非常偏振光在單軸晶體和雙軸晶體內(nèi)表面的雙反射現(xiàn)象，以及菲涅耳反射情況。具體成果如下：
　　 1．研究了單軸晶體光軸任意、非常偏振光

2、由晶體入射到各向同性介質(zhì)時，晶體內(nèi)表面的菲涅耳反射。利用單軸晶體的折射率面，通過幾何作圖法分析了晶體表面的雙反射和折射，得到了反射光波、反射光線、折射光波和折射光線的位置。根據(jù)電磁場邊界條件和晶體的雙反射效應(yīng)，得到了單軸晶體內(nèi)表面上的反射系數(shù)和透射系數(shù)，以及反射率和透射率的解析表達(dá)式。
　　 2．研究了雙軸晶體入射面是主軸截面時，晶體內(nèi)表面的菲涅耳反射。借助于雙軸晶體的折射率面，通過作圖確定了反射光波、反射光線、折射光波和折射光