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1、本文對用于慣性約束聚變中的莫爾光柵、自支撐金透射光柵和多層介質(zhì)膜脈寬壓縮光柵的制作工藝進行了較為系統(tǒng)的研究,而用于慣性約束聚變中的其它類型光柵如取樣光柵、色分離光柵、成像波帶片等由于時間關(guān)系沒有涉及.針對實驗中出現(xiàn)的種種問題,查閱了大量的文獻資料,對全息離子束刻蝕衍射光柵中的涂膠、全息曝光、顯影、離子束刻蝕進行了進一步的大量實驗研究,解決了部分工藝問題.本文的主要結(jié)論是:1全息光柵掩模制作中的涂膠、全息曝光、顯影工藝得到進一步固化.2綜
2、合文獻提供的光刻膠處理工藝,已做出了側(cè)壁陡直的光柵支撐結(jié)構(gòu)圖形(線寬8μm、槽寬2μm、槽深~10μm).這將有利于自支撐透射光柵的支撐結(jié)構(gòu)、莫爾光柵的制作.3完成了1000線/mm的自支撐透射光柵的研制;2000~3000線/mm的自支撐透射光柵,因其尺寸大(長12mm)及微電鍍工藝存在問題目前還在繼續(xù)研制.4 863課題"脈寬壓縮光柵研制"工作方面,側(cè)重于多層介質(zhì)膜脈寬壓縮光柵的離子束刻蝕研究,在大量離子束刻蝕實驗的基礎(chǔ)上,確定了優(yōu)
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