測量三維折射率的微分干涉層析方法研究.pdf

1、折射率是表征光透明物質(zhì)光學(xué)性質(zhì)的基本物理量之一。各種光透明物質(zhì)中，諸如密度、濃度、溫度、應(yīng)力等物理量的變化，均會引起折射率的變化。根據(jù)折射率的空間分布和時間變化，可以分析乃至確定其它多種“場量”。因此，對折射率的測量是具有基本意義的測量，并且有廣泛的應(yīng)用價值。本文采用的微分干涉層析的方法來測量材料的折射率，此方法以開發(fā)新型相干層析三維測量技術(shù)及光測力學(xué)新方法為目的，對高相干層析方法進(jìn)行了一系列實(shí)驗(yàn)研究。 本文首先介紹了國內(nèi)外在測

2、量折射率方面和相干層析技術(shù)的研究現(xiàn)狀，在這些測量方法中有的能夠測量介質(zhì)的厚度：有的能夠測量介質(zhì)的折射率有的既能測量厚度又能測量折射率，但只能測量單層介質(zhì)。為此我們提出了一種新穎的基于共焦顯微鏡技術(shù)，和高相干干涉測量的非接觸式測量方法。用這種方法我們不僅能夠測量出不均勻折射率材料的折射率，而且能夠測量出材料內(nèi)部每個測量點(diǎn)的折射率，此外還能對這個測量點(diǎn)的具體位置進(jìn)行定位。 期間，設(shè)計(jì)了相干層析測量系統(tǒng)的四個實(shí)驗(yàn)光路，其中有新的光路濾