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文檔簡介
1、鉬酸鉛(PbMoO4)單晶作為一種性能優(yōu)良的聲光晶體材料廣泛應(yīng)用于聲光偏轉(zhuǎn)器、聲光調(diào)制器和聲光濾波器等各類聲光器件,是目前在可見光、近紅外和中紅外光譜區(qū)優(yōu)先選用的聲光介質(zhì)材料。近年來隨著聲光調(diào)制器和聲光濾波器在光計(jì)算、光通訊和光顯微成像等技術(shù)中應(yīng)用的不斷發(fā)展,對PbMoO4晶體質(zhì)量的要求愈來愈高。因此深入開展提拉法生長PbMoO4聲光晶體的研究,尤其是研究晶體生長工藝參數(shù)與晶體缺陷之間的關(guān)系,以制備出低位錯(cuò)、無散射、高質(zhì)量的PbMoO4
2、聲光晶體,不但具有重要的理論意義,而且具有重要的社會(huì)經(jīng)濟(jì)價(jià)值。 本文主要研究了PbMoO4單晶的提拉法生長工藝,討論了工藝參數(shù)對晶體質(zhì)量的影響,分析了晶體主要缺陷的形成機(jī)理,探討了降低位錯(cuò)密度、消除散射現(xiàn)象的工藝措施。主要的研究結(jié)果如下: 1、采用有限元模擬方法分析研究了在提拉法生長PbMoO4晶體過程中,工藝參數(shù)對固液界面形狀的影響。模擬結(jié)果顯示:在提拉速率和溫度梯度不變時(shí),隨著晶體旋轉(zhuǎn)速率的增加,固液界面經(jīng)歷了由凸到
3、平再到凹的變化過程;而在提拉速率和晶體旋轉(zhuǎn)速率保持不變時(shí),隨著溫度梯度的增加,固液界面形狀則經(jīng)歷了由凹到平再到凸的變化過程。根據(jù)模擬結(jié)果,優(yōu)化了提拉法生長PbMoO4晶體的工藝參數(shù),為PbMoO4單晶生長實(shí)驗(yàn)提供了理論依據(jù)。 2、通過提拉法生長PbMoO4單晶實(shí)驗(yàn),研究溫度梯度、拉速、轉(zhuǎn)速等生長參數(shù)對晶體質(zhì)量的影響,從實(shí)驗(yàn)上進(jìn)一步優(yōu)化了提拉法生長PbMoO4晶體的工藝參數(shù)。發(fā)現(xiàn)當(dāng)溫度梯度為20~25℃/cm、晶體轉(zhuǎn)速為25~30
4、rmp、拉速為1.5~1.6mm/h時(shí),可生長出晶體形態(tài)完整、無開裂現(xiàn)象、晶體中基本無散射顆粒、位錯(cuò)密度為2~3×103/cm2、平均透過率達(dá)76%、晶體尺寸為φ40×70mm的PbMoO4晶體。晶體質(zhì)量已達(dá)到器件級(jí)標(biāo)準(zhǔn),已提供國內(nèi)外相關(guān)單位使用,反應(yīng)良好。 3、研究了提拉法生長的PbMoO4晶體中主要缺陷的形成機(jī)理,討論分析了單晶生長的工藝參數(shù)對晶體缺陷的影響。研究發(fā)現(xiàn):晶體裂縫主要與溫度梯度有關(guān),溫度梯度大于25℃/cm,易
5、造成晶體的開裂和位錯(cuò)密度的增加;由氣泡、固相包裹體組成的散射顆粒是造成PbMoO4晶體中散射現(xiàn)象的主要原因,并以氣泡為主;氣泡的形成與固液界面形狀有關(guān),而固相包裹體的形成與固液界面的穩(wěn)定性有關(guān)。研究結(jié)果表明,減小溫度梯度、降低提拉速度和采用高質(zhì)量的籽晶可以有效地減少位錯(cuò)缺陷;在晶體生長過程中,保持整個(gè)生長系統(tǒng)的穩(wěn)定可以有效的抑制固相包裹體和生長臺(tái)階的形成;對PhMoO4晶體進(jìn)行適當(dāng)?shù)难鯕夥胀嘶饎t可以有效消除色心缺陷,進(jìn)一步提高晶體的光學(xué)
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