版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、近年來,具有特殊金屬-絕緣轉(zhuǎn)變特性的氧化釩功能材料,特別是能夠在室溫附近觸發(fā)該轉(zhuǎn)變的二氧化釩(VO2)材料,受到了廣泛的關(guān)注,并在微電子、光電子及傳感器方面展現(xiàn)出了巨大的應(yīng)用前景。由于釩元素具有+2、+3、+4、+5多個(gè)化學(xué)價(jià)態(tài)且形成的氧化物相圖十分復(fù)雜,制備純相高質(zhì)量外延二氧化釩薄膜目前仍然是國際上巨大的技術(shù)挑戰(zhàn)。因此,尋求一種簡單的方法實(shí)現(xiàn)價(jià)態(tài)可控的氧化釩薄膜沉積,并實(shí)現(xiàn)其高質(zhì)量外延生長,是開發(fā)新型氧化釩功能器件的必要前提。
2、 從物理本質(zhì)上講,氧化釩功能器件都是基于其金屬-絕緣轉(zhuǎn)變的特性,通過調(diào)控氧化釩薄膜的微結(jié)構(gòu)和應(yīng)變狀態(tài)來改變薄膜物理性能是實(shí)現(xiàn)氧化釩薄膜器件應(yīng)用的重要途徑。此外,通過異質(zhì)結(jié)構(gòu)集成其他類型的功能材料來構(gòu)筑新型器件,并由VO2相變產(chǎn)生的應(yīng)變對集成材料性質(zhì)進(jìn)行調(diào)控,從而實(shí)現(xiàn)耦合效應(yīng),是設(shè)計(jì)和開發(fā)新型功能薄膜器件的新思路。控制VO2與其他功能材料的界面則成為能否實(shí)現(xiàn)其耦合效應(yīng)的關(guān)鍵。
針對以上問題,本論文分別采用新興的化學(xué)溶液方法—高
3、分子輔助沉積法和物理脈沖激光沉積法制備了高質(zhì)量外延的氧化釩功能薄膜,根據(jù)氧化釩薄膜與基片的不同晶體對稱結(jié)構(gòu),通過4種不同的生長匹配方式,實(shí)現(xiàn)了對氧化釩薄膜金屬絕緣性能的調(diào)制,并系統(tǒng)研究了其應(yīng)變弛豫的方式與物理性能之間的關(guān)聯(lián)性。在此基礎(chǔ)上,將VO2薄膜與磁致伸縮材料CoFe2O4實(shí)現(xiàn)了異質(zhì)集成生長,并對該原型器件進(jìn)行了耦合效應(yīng)的表征。
在使用高分子輔助沉積技術(shù)的薄膜生長研究中,基于對薄膜生長熱力學(xué)行為的理論分析,通過對燒結(jié)過程中
4、氣氛的控制,實(shí)現(xiàn)了氧化釩薄膜的價(jià)態(tài)可控的生長,在藍(lán)寶石(0001)基底上制備了純相的V2O3、V4O7、VO2和V2O5薄膜,V2O3和VO2薄膜都與藍(lán)寶石基底形成了良好匹配的外延生長。這兩類薄膜都表現(xiàn)出了良好的金屬絕緣轉(zhuǎn)變特性:V2O3薄膜的升溫轉(zhuǎn)變點(diǎn)在158 K,降溫轉(zhuǎn)變點(diǎn)在130 K;VO2薄膜的升溫轉(zhuǎn)變點(diǎn)在341 K,降溫轉(zhuǎn)變點(diǎn)在336 K。微結(jié)構(gòu)表征和分析表明,薄膜金屬-絕緣轉(zhuǎn)變的寬度與外延薄膜的應(yīng)變存在密切的關(guān)系。
5、 為了進(jìn)一步研究薄膜微結(jié)構(gòu)與相變過程的關(guān)系,采用變溫拉曼技術(shù)對用高分子輔助沉積法制備的不同厚度VO2外延薄膜進(jìn)行表征,在較厚(約150 nm)的樣品中能夠明顯觀察到結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變過程中中間相M2相的生成和演化,而在較?。s90 nm)的樣品中這樣的現(xiàn)象則不明顯,通過高分辨X射線衍射獲得的微結(jié)構(gòu)表征結(jié)果表明,這兩個(gè)樣品之間沒有明顯的應(yīng)變差異,但在較厚的薄膜中,位錯(cuò)密度高于較薄的樣品,從而表明位錯(cuò)促進(jìn)了VO2薄膜轉(zhuǎn)變過程中M2相的形成。
6、 另一方面,使用脈沖激光沉積方法在藍(lán)寶石(0001)基片上制備了具有高表面平整度的外延VO2薄膜,根據(jù)結(jié)構(gòu)區(qū)域模型,通過工藝優(yōu)化,使薄膜表面均方根粗糙度從30 nm左右降低到6.81 nm,為進(jìn)一步集成生長高質(zhì)量功能薄膜打下了基礎(chǔ)。
采用相同的工藝,利用面內(nèi)晶格常數(shù)各向異性的藍(lán)寶石(11-20)基片,通過高質(zhì)量的外延生長,獲得了具有面內(nèi)各向異性特性的VO2外延薄膜。輸運(yùn)測試結(jié)果表明,在185 nm厚度的樣品中,在薄膜的面內(nèi)觀察
7、到兩個(gè)取向的金屬絕緣轉(zhuǎn)變過程具有各向異性,即沿著藍(lán)寶石[0001]取向能觀察到兩個(gè)金屬絕緣轉(zhuǎn)變的臨界點(diǎn),而沿著[10-10]取向僅能明顯觀察到一個(gè)臨界點(diǎn)。隨著厚度的減薄,這種效應(yīng)逐漸消失,在30 nm的樣品中在面內(nèi)兩個(gè)取向上都僅能觀察到一個(gè)轉(zhuǎn)變臨界點(diǎn)。由此提出了由薄膜與基片之間的晶格匹配關(guān)系誘發(fā)的面內(nèi)取向上不同應(yīng)變弛豫方式而引起上述各向異性的可能物理模型。
在實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量外延生長VO2薄膜的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步集成生長了磁致伸縮CoF
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 氧化釩半導(dǎo)體功能薄膜的光電特性及其應(yīng)用基礎(chǔ)研究.pdf
- 氧化釩薄膜的光電特性及其應(yīng)用基礎(chǔ)研究.pdf
- 用五氧化二釩制備氮化釩的基礎(chǔ)研究.pdf
- SOI集成光波導(dǎo)器件的基礎(chǔ)研究.pdf
- 氧化釩薄膜的制備與光電特性研究.pdf
- 三氧化二釩碳熱還原氮化制備碳氮化釩的基礎(chǔ)研究.pdf
- 氧化鈦薄膜生長及鐵電集成性研究.pdf
- 氧化釩薄膜微結(jié)構(gòu)表征與調(diào)控.pdf
- 二氧化釩薄膜的磁控濺射生長及其性質(zhì)研究.pdf
- 氧化釩薄膜微結(jié)構(gòu)與噪聲性能研究.pdf
- 磁控濺射制備氧化釩薄膜.pdf
- 氧化釩薄膜結(jié)構(gòu)和性能研究.pdf
- 釩鈦磁鐵礦氯化提釩的基礎(chǔ)研究.pdf
- 氧化釩基納米材料及器件研究.pdf
- 磁控濺射氧化釩薄膜制備工藝研究.pdf
- 硅基功能薄膜與器件的研究.pdf
- 摻氮氧化釩薄膜的制備與性能研究.pdf
- 氧化釩薄膜的制備、微結(jié)構(gòu)與特性研究.pdf
- 氧化釩薄膜的快速熱氧化法制備工藝與相變特性研究.pdf
- 反應(yīng)磁控濺射氧化釩薄膜的研究.pdf
評論
0/150
提交評論