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文檔簡介
1、Cr20Ni80電熱合金由于具有良好的抗氧化性、抗腐蝕性、較大的電阻率和穩(wěn)定的電阻率值、較高的高溫強度等綜合性能,被廣泛應用在家用電器、工業(yè)爐及醫(yī)療、通信、核電等領域內的電熱元器件制備。而加熱溫度和時間是影響Cr20Ni80電熱合金材料性能的重要因素,決定著電熱元件在使用過程中表面氧化膜的生成和破壞,對合金元器件的使用壽命有著極其重要的作用。本文所研究的Cr20Ni80電熱合金絲用于鋁熔煉爐加熱器件,在論文中研究了 Cr20Ni80電熱
2、合金的氧化動力學過程以及氧化膜的形貌,探討了氧化膜的形成和生長機理。采用箱式電阻爐對8 mmCr20Ni80電熱合金絲進行氧化實驗。研究選用了恒溫氧化法和循環(huán)氧化法兩種實驗方法來進行實驗,恒溫氧化法溫度設為700℃~1000℃,時間設為1 h~100h,循環(huán)氧化法溫度設為1000℃,氧化時間分別為4 h,10h,25h,50 h。主要采用精密電子天平對氧化前后的試樣進行稱重,然后基于氧化前后的質量變化擬合不同溫度下的氧化動力學曲線,采用
3、金相(OM)、X射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)、能譜(EDS)等方法對試樣表面形成的氧化膜進行分析。
本研究主要內容包括:⑴在同一氧化溫度下,隨著氧化時間的延長,氧化動力學曲線出現(xiàn)了分階段現(xiàn)象。在氧化初期的氧化速率與后期相比,要快很多。且隨著溫度的升高,氧化速率逐漸變大,在氧化過程中,材料的抗氧化級別始終為完全抗氧化性。⑵在氧化初期,試樣表面快速形成一層氧化膜,隨著氧化時間的延長,在氧化膜內部應力和熱應力的作用下,氧化
4、膜開始出現(xiàn)剝落現(xiàn)象,隨后在氧化膜剝落的區(qū)域又開始形成新的氧化膜。經 XRD分析,組成氧化膜的主要氧化物為C r2O3,且氧化膜中含有尖晶石結構的NiCr2O4,Cr2O3與NiCr2O4相互交錯,構成了致密均勻的氧化膜,使材料具有了很好的抗氧化性能和抗腐蝕性能。在氧化過程中,如果氧濃度較低,會造成擴散驅動力較小,在這種條件下,鉻離子的擴散方式主要為沿晶界以及缺陷的短路擴散,這會導致Cr20Ni80電熱合金試樣表面形成網狀的氧化膜,由于這
5、種初期形成的氧化膜有很多孔,這就為后期鉻離子的向外擴散提供了快速的擴散通道,有利于致密均勻氧化膜的形成,隨著氧化時間的延長,八面體形狀的N iC r2O4尖晶石會逐漸變?yōu)閷悠瑺詈桶魻?。⑶?000℃條件下,在Cr20Ni80電熱合金試樣氧化前期,在試樣表面產生了由球狀或橢球狀氧化物(主要由Cr2O3構成)組成的表面氧化膜,且隨著氧化時間的延長,這些球狀或橢球狀的氧化物長大并破裂。循環(huán)氧化條件下,與恒溫氧化相比,試樣氧化相同的時間增重較大
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