2023年全國(guó)碩士研究生考試考研英語(yǔ)一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁(yè)
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1、解決橫向功率MOSFET器件擊穿電壓(BV)與比導(dǎo)通電阻(Ron,sp)之間的矛盾關(guān)系是一個(gè)重要的課題。對(duì)于低壓功率LDMOS(BV<200V)器件而言,溝道電阻和漂移區(qū)電阻一樣,對(duì)器件的導(dǎo)通損耗有重要影響。槽柵技術(shù)的引入,可以增加器件的溝道密度,并優(yōu)化電流分布,有效的增加器件的開(kāi)態(tài)電流,降低溝道電阻。高 K介質(zhì)在功率器件中可以調(diào)制電場(chǎng)分布,提高漂移區(qū)摻雜濃度,改善耐壓的同時(shí)降低器件的漂移區(qū)電阻。本文將結(jié)合槽柵技術(shù)和高K技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),提出

2、三種電導(dǎo)增強(qiáng)型橫向功率MOS器件,致力于改善LDMOS的“硅極限”問(wèn)題。
  本研究主要內(nèi)容包括:⑴提出一種具有分離三柵和高K介質(zhì)的SOI LDMOS器件。該器件具有分離的三柵和位于耐壓區(qū)的高 K介質(zhì),三柵包括一個(gè)平面柵和兩個(gè)延伸至埋氧層的分段槽柵,高 K介質(zhì)與漂移區(qū)在器件中交替排列。開(kāi)態(tài)時(shí),三柵結(jié)構(gòu)形成了一個(gè)平面溝道和兩個(gè)縱向溝道,不僅增加了溝道密度,還可以使電流在體內(nèi)分布更優(yōu)化;同時(shí),槽柵、高K介質(zhì)和漂移區(qū)還構(gòu)成了MIS電容結(jié)

3、構(gòu),在漂移區(qū)靠近高K的側(cè)壁形成高濃度的電子積累層,有效提升了器件的開(kāi)態(tài)電流;關(guān)態(tài)時(shí),MIS電容輔助耗盡漂移區(qū),提高其摻雜濃度,進(jìn)一步降低器件的比導(dǎo)通電阻;再者 M IS電容從源到漏逐漸減小,輔助耗盡作用也越來(lái)越弱,使均勻摻雜的漂移區(qū)等效為線性分布,器件電場(chǎng)更加優(yōu)化,耐壓有所提高。通過(guò)仿真優(yōu)化,TSG-HK LDMOS器件的耐壓為97V,比導(dǎo)通電阻為0.34mΩ·cm2,與相同尺寸的槽柵超結(jié)器件相比,比導(dǎo)通電阻下降了62%,有效的改善了硅

4、極限問(wèn)題。⑵提出一種具有雙柵和超低阻電流通道的LDMOS器件。該器件具有雙柵,高K介質(zhì)和P條,雙柵包括平面柵和槽柵,槽柵與高K介質(zhì)相連,N漂移區(qū)位于高K介質(zhì)的兩側(cè),P條位于N漂移區(qū)的外側(cè)。開(kāi)態(tài)時(shí),雙柵形成平面溝道和垂直溝道,增大了溝道密度,槽柵、高K和N漂移區(qū)構(gòu)成的MIS電容會(huì)形成電子積累作用,有效提升器件的電流密度;關(guān)態(tài)時(shí),MIS電容和P條共同輔助耗盡漂移區(qū),進(jìn)一步提高其摻雜濃度,使器件的比導(dǎo)通電阻顯著降低。在仿真中,該器件的耐壓為7

5、6V,比導(dǎo)通電阻為0.2mΩ·cm2,優(yōu)值達(dá)到了28.9MW/cm2。⑶提出一種具有多積累層的橫向功率MOS器件。該器件具有槽柵結(jié)構(gòu)和與漂移區(qū)相間排列的高K介質(zhì),槽柵底部與P阱接觸,高K介質(zhì)底部和埋氧層之間還留有一部分漂移區(qū)。開(kāi)態(tài)時(shí),槽柵側(cè)壁和底部都會(huì)形成反型層溝道,有效的提高了器件的溝道密度;同時(shí)槽柵、高K和漂移區(qū)構(gòu)成的MIS電容會(huì)在靠近高K介質(zhì)的漂移區(qū)中產(chǎn)生電子積累作用,所以高 K介質(zhì)側(cè)壁和底部的漂移區(qū)中都有高濃度的電子積累層,極大

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