[雙語翻譯]外文翻譯--激光近凈成形（lens）fe3al類金屬間化合物的微觀組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性質(zhì)（譯文）

1、中文 中文 5350 字文獻(xiàn)出處： 文獻(xiàn)出處：Durejko T, Zi?tala M, ?azińska M, et al. Structure and properties of the Fe 3 Al-type intermetallic alloy fabricated by laser engineered net shaping (LENS)[J]. Materials Science Micha? Zi?tala;Magd

2、a ?azińska;Stanis?aw Lipiński;Wojciech Polkowski, Tomasz Czujko , Robert A. Varin摘要 摘要本文介紹了激光近凈成形（LENS）技術(shù)制造的 Fe Al-0.35Zr-0.1B 合金的微觀組織結(jié) 3構(gòu)和力學(xué)性能。通過選擇合理的工藝技術(shù)參數(shù)，可以獲得較低孔隙率和形狀一致性較好的結(jié)構(gòu)。獲得的 Fe Al 基合金樣品化學(xué)成分均勻，而且成形結(jié)構(gòu)底部為柱狀晶，在中心和邊

3、 3緣為等軸晶。相分析結(jié)果表明，（成形結(jié)構(gòu)中）存在 B2 結(jié)構(gòu)的 Fe Al 金屬間化合物相組 3織和（Fe，Al) Zr Laves 相組織。在 450℃下進(jìn)行 50 小時(shí)等溫退火將會使 B2 向平衡的 DO 2結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。雖然 B2 結(jié)構(gòu)的 Fe Al 基合金成形樣品退火后轉(zhuǎn)變?yōu)?DO 結(jié)構(gòu)，但屈服強(qiáng)度 3 3 3和極限抗拉強(qiáng)度并未有明顯變化。然而，DO 結(jié)構(gòu)將會導(dǎo)致伸長率顯著增加，特別是在升 3高溫度情況下更加明顯。1.引言 引言基

4、于諸如鐵，鈦，鎳，鈮和鈷的過渡金屬的鋁化物的有序金屬間合金可以在高于現(xiàn)代超級合金的溫度下使用，同時(shí)提供較好的比力學(xué)性能，這主要是因?yàn)樗鼈兊拿芏容^低，一般在 5.4? 6.7g / cm 3。 含有大量鋁元素（10-20％）形成不透性氧化物層，可以接近1000℃的溫度下防止氧化，硫化和滲碳。 FeAl（B2）和 Fe Al（DO ）金屬間相在 600℃ 3 3以上具有高的抗氧化，耐腐蝕，耐磨損和抗蠕變性。 通過與 Mo，Hf，Nb，Zr

5、和 Ta 的合金化獲得更好的抗蠕變性[7-12]。 摻雜 Zr 導(dǎo)致形成硬的（Fe,Al) Zr 拉夫斯相沉淀物，改 22.2. 應(yīng)用材料和方法 應(yīng)用材料和方法摻雜有鋯和硼的球形 Fe Al 粉末具有以下標(biāo)準(zhǔn)化學(xué)組成：Fe30Al-0.3Zr-0.1B（at 3％），購自 LERMPS（法國）。 對初始粉末進(jìn)行粒度分布評價(jià)和化學(xué)元素組成分析。用 KAMIKA IPS UA 裝置（KAMIKA Instruments，波蘭）進(jìn)行粒度的測

6、量。 使用所提供的軟件對至少 100,000 個(gè)顆粒進(jìn)行等效粒徑 Di 的分析。LENS MR-7 裝置制造 Fe Al 基化合物樣品，調(diào)整以下工藝參數(shù)：激光功率 P [W]，進(jìn) 3料速率 F [mm / s]和粉末流速 PF [g / min]。 使用 BP-97d 電子放電加工裝置（ZAP B.P.，波蘭）在垂直于襯底的方向切下 LENS 制造的樣品。 隨后，對樣品進(jìn)行金相制備，例如用500-2400 SiC 紙研磨，隨后用 3-

7、0.25μm 金剛石懸浮液拋光。 在使用顯微鏡觀察之前，使用丙酮脫脂將分析的表面在超聲波清洗器中清洗干凈。 通過使用以下試劑的化學(xué)蝕刻顯示顯微結(jié)構(gòu)細(xì)節(jié)：33％CH COOH + 33％HNO + 33％H O + 1％HF。 3 3 2使用 Nikon Eclipse MA200 light mi 對 LENS 制造的樣品晶粒結(jié)構(gòu)進(jìn)行評估（Nikon Instruments Europe，Netherlands）。 根據(jù)適當(dāng)?shù)墓酱_定以

8、下立體參數(shù)：●等效圓直徑 : ECD4 / ECD P ? ?其中 P 表示被分析對象的面積;●形狀長寬比 : K ?2 4 / K P O ? ? ?其中 P 表示分析的晶粒的面積，O 表示分析對象的電路;孔隙率 - 孔隙的面積分?jǐn)?shù)。通過與 FEI Quanta 3D 場發(fā)射槍掃描電子顯微鏡（FEI，USA）耦合的能量色散光譜（EDS）裝置對樣品的選定區(qū)域中的化學(xué)組成進(jìn)行定性和定量分析。在 20-120°的 2 范圍內(nèi)進(jìn)行，