電子科技大學(xué)半導(dǎo)體物理期末考試試卷a試題答案_第1頁(yè)
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1、學(xué)院姓名學(xué)號(hào)任課老師選課號(hào)座位號(hào)………密………封………線………以………內(nèi)………答………題………無(wú)………效……第1頁(yè)共10頁(yè)電子科技大學(xué)二零電子科技大學(xué)二零九至二零至二零一零一零學(xué)年第學(xué)年第一學(xué)期期學(xué)期期末考試考試半導(dǎo)體物理課程考試題A卷(120分鐘)考試形式:閉卷考試日期2010年元月18日課程成績(jī)構(gòu)成:平時(shí)10分,期中5分,實(shí)驗(yàn)15分,期末70分一二三四五六七八九十合計(jì)復(fù)核人簽名得分簽名一、選擇題(共25分,共25題,每題1分)1、本

2、征半導(dǎo)體是指(A)的半導(dǎo)體。A.不含雜質(zhì)和缺陷B.電阻率最高C.電子密度和空穴密度相等D.電子密度與本征載流子密度相等2、如果一半導(dǎo)體的導(dǎo)帶中發(fā)現(xiàn)電子的幾率為零,那么該半導(dǎo)體必定(D)。A.不含施主雜質(zhì)B.不含受主雜質(zhì)C.不含任何雜質(zhì)D.處于絕對(duì)零度3、對(duì)于只含一種雜質(zhì)的非簡(jiǎn)并n型半導(dǎo)體,費(fèi)米能級(jí)EF隨溫度上升而(D)。A.單調(diào)上升B.單調(diào)下降C.經(jīng)過(guò)一個(gè)極小值趨近EiD.經(jīng)過(guò)一個(gè)極大值趨近Ei4、如某材料電阻率隨溫度上升而先下降后上升

3、,該材料為(C)。A.金屬B.本征半導(dǎo)體C.摻雜半導(dǎo)體D.高純化合物半導(dǎo)體5、公式中的是半導(dǎo)體載流子的(C)。mq????A.遷移時(shí)間B.壽命C.平均自由時(shí)間D.擴(kuò)散時(shí)間6、下面情況下的材料中,室溫時(shí)功函數(shù)最大的是(A)得分學(xué)院姓名學(xué)號(hào)任課老師選課號(hào)座位號(hào)………密………封………線………以………內(nèi)………答………題………無(wú)………效……第3頁(yè)共10頁(yè)(A)。A、【100】B、【111】C、【110】D、【111】或【110】14、簡(jiǎn)并半導(dǎo)體是

4、指(A)的半導(dǎo)體。A、(ECEF)或(EFEV)≤0B、(ECEF)或(EFEV)≥0C、能使用玻耳茲曼近似計(jì)算載流子濃度D、導(dǎo)帶底和價(jià)帶頂能容納多個(gè)狀態(tài)相同的電子15、在硅基MOS器件中,硅襯底和SiO2界面處的固定電荷是(B),它的存在使得半導(dǎo)體表面的能帶(C),在CV曲線上造成平帶電壓(F)偏移。A、鈉離子B、過(guò)剩的硅離子C、向下D、向上E、向正向電壓方向;F、向負(fù)向電壓方向二、填空題(共15分,共15空,每空1分)1、硅的導(dǎo)帶極

5、小值位于布里淵區(qū)的<100100>方向上,根據(jù)晶體的對(duì)稱性共有6個(gè)等價(jià)能谷。2、n型硅摻砷后,費(fèi)米能級(jí)向Ec(Ec(上)移動(dòng),如升高材料的工作溫度,則費(fèi)米能級(jí)向Ei(Ei(下)移動(dòng)。3、對(duì)于導(dǎo)帶為多能谷的半導(dǎo)體,如GaAs,當(dāng)能量適當(dāng)高的子能谷的曲率較小時(shí),有可能觀察導(dǎo)負(fù)微分電導(dǎo)現(xiàn)象,這是因?yàn)檫@種子能谷中的電子的有效質(zhì)量較大。4、復(fù)合中心的作用是促進(jìn)電子和空穴的復(fù)合,起有效的復(fù)合中心的雜質(zhì)能級(jí)必須位于EiEi(禁帶中線)(禁帶中線),并

6、且對(duì)電子和空穴的俘獲系數(shù)rn和rp必須滿足rn=rp。5、熱平衡條件下,半導(dǎo)體中同時(shí)含有一種施主雜質(zhì)和一種受主雜質(zhì)情況下的電中性條件是_p0nnD=n=n0ppA。6、金半接觸時(shí),常用的形成歐姆接觸的方法有_隧道效應(yīng)隧道效應(yīng)和_反阻擋層_反阻擋層7、MIS結(jié)構(gòu)的表面發(fā)生強(qiáng)反型時(shí),其表面的導(dǎo)電類型和體材料的導(dǎo)電類型_相反相反(相同或相反),若增加摻雜濃度,其開(kāi)啟電壓將_增加增加(增加或減?。?。8、在半導(dǎo)體中,如果溫度升高,則考慮對(duì)載流子的

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