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1、化學(xué)英語(yǔ)證書考試化學(xué)英語(yǔ)證書考試(PEC)化工機(jī)械術(shù)語(yǔ)化工機(jī)械術(shù)語(yǔ)AAlignment:Theproperrelativepositionaccuracyofagraphicimageonanemulsionphotoresistfilmmaskwithrespecttoanexistinggraphicimageonasubstrate.Alignmentmarks:Imagesivelyplacedwithinwithoutanar
2、rayfeithertestingaligningboth.Angstrom():Unitdefinitionusedtodefinelightwavelengthultravioletenergyxraysoneangstromisequivalentto10nanometers(1.01010meters).Artwk:Anaccuratelyscaledpatternwhichisusedwithproducingthetechn
3、icalengineeringdrawingartwkphotomasterphotomask(s)aproductconsistingofanimageonthestablebasesurface.Theproperdeiontodefineartwkmustincludetherequiredspecificationftoneientationthesespecificationsimpactsubsequentphotoproc
4、essingoperationsusability.Artwkmaster:Anaccurateonetoonepatternusuallyasingleimagewhichiswhatisusedinproducingthephotomask(s).Theproperdeiondefiningtheartwkmastermustincludetherequiredspecificationftonethesespecification
5、sarewhatimpactsubsequentphotoprocessingCADCAMoperations.BBackground:Thesurfaceareaagainstwhichthepatternisrelieved.Thesurfaceareaofthebackgroundisusuallymuchgreaterthanthearearelieved.Backlighting:Viewingphotographingano
6、bjectbyplacingitbetweenalightsourceontowhichastrippablephotosenseisappliedfusewithproducingphototools.BderArea:Regionareasoutsidethefunctionalpatternarea(s).BderData:Thedatapatternswhichappearwithinthebdersareasofphototo
7、olingthepatternsmayincludetoolingholebullseyesidentificationtestregistrationmarks.Bullseye:Stylizedcontrolpatternlocatedwithinthebdersareasofa(phototoolphotomaskphotoregisteredthentransferredtoathirdsubstrate.Thismaybeac
8、complishedinconjunctionwithcontactprintingcamerasoperations.Thecompositionusuallyinvolvesintermediatephototools.ContactPrinting:Aphotographicprocesswithimagesbeingtransferredfromonesurfacebylightexposuretothephotosensesi
9、deofasecond.Theprintedimageientationisdependentontherelativepositioningofthesurfacesthetoneisdependentonthephotosensitivechemicalmatterused.Codinatograph:Anxycodinatephotoplottingmachineconsistingofafixedrotatingtable&mo
10、vableheadonfixedwaysthatiscapableofpreciselylocatingapointonalinesurface.Acodinatographiscommonlyusedwithcutstripscribecoatmaterialstogenerateartwkpatterns.CopyCamera:Camerasadaptedfenlargingreducingcolseparating&photogr
11、aphicmaterialsscreening.Alsoreferredtoasaprocesscamera.CosineLaw:Anilluminationlawwhichindicatesthatthefluxradiatedreceivedinagivendirectionvarieswiththeprojectedareaofthereceiveremitterinaplaneperpendiculartothefluxdire
12、ction.Crease:Alinegrooveridgethatismadebyasifbyfoldingapliablesubstance.CutStrip:Amethodfproducingartwkbycuttingtheatternthenstrippingawaytheunwantedareasoftwolayersaterialtheengineeringterminology“cutstrip”&“CutPeel”are
13、synonymous.Thepreferabletermis“CutStrip.”DDatum:Apositionelementinrelationtowhichothersaredetermined.DatumLine:Alinefromwhichdistancesdimensionsarereckoned.DatumPlane:Aplanefromwhichdistancesdimensionsarereckoned.Datumpo
14、int:Apointusedasthebasisfreckoning.Defect:Anundesirableblemishwithinthefunctionalpatternbackgroundcommonlycalledflecksvoidspinholesspursnotchesetc.Definition:Thefidelityofreproductionwiththepatternedgerelativetotheiginal
15、engineeringmaster.Density(D):Thelog(1T)whereTistransparency.ThevaluefDdependsonthephotoemulsioncomponentthemagnitudepowernatureoftheexposurethedevprocessingconditionsthedensitometeropticalarrangement.DesignofExperiments:
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