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文檔簡介
1、稀磁半導體(Diluted Magnetic Semiconductors,DMS)材料兼?zhèn)浯判院桶雽w特性,同時利用了電子的電荷和自旋屬性,具有優(yōu)異的磁、磁光、磁電等性能,在材料科學和未來自旋電子器件領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。當今,以第三代寬禁帶半導體ZnO為支撐的稀磁半導體材料成為研究的熱點之一,這是因為ZnO不但具有優(yōu)良的綜合特性和廣泛的應(yīng)用,而且有望得到居里溫度很高的稀磁半導體。 本論文首先對稀磁半導體薄膜材料的基本性質(zhì)、
2、物理性質(zhì)、物理機制和當前的研究進展、制備方法和測試手段作了綜述;然后,分別制備了金屬Cr薄膜、本征ZnO半導體薄膜和Zn<,1-x>Cr<,x>O稀磁半導體薄膜;最后,對Zn<,1-x>Cr<,x>O薄膜的的微觀結(jié)構(gòu)、成份、價態(tài)、磁輸運性能以及電輸運性能等進行了系統(tǒng)研究。 通過做了一系列單一條件實驗,我們分別采用射頻磁控濺射法和直流濺射法制備了高c軸取向的ZnO薄膜和金屬Cr薄膜,系統(tǒng)地研究沉積工藝對薄膜晶體結(jié)構(gòu)的影響,利用了X
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