有機(jī)聚合物調(diào)制器電極設(shè)計(jì)與工藝.pdf

1、聚合物光調(diào)制器是目前世界范圍的一個(gè)研究熱點(diǎn)，在光通信方面有廣泛的和極具吸引力的應(yīng)用前景，對(duì)它的研究工作具有重要的意義。調(diào)制電極作為電光調(diào)制器中不可缺失的組成部分，它的制作工藝研究顯然亦具有十分重要的現(xiàn)實(shí)意義。 本文研究了有機(jī)聚合物調(diào)制器電極的設(shè)計(jì)和制備工藝，主要研究內(nèi)容如下：首先，研究了電光調(diào)制器的基本原理，根據(jù)實(shí)際系統(tǒng)要求，設(shè)計(jì)了1GHz聚合物光波導(dǎo)電光調(diào)制器微帶電極系統(tǒng)。依據(jù)微帶系統(tǒng)的電路模型對(duì)設(shè)計(jì)參數(shù)進(jìn)行了分析和驗(yàn)證，在綜

2、合考慮波導(dǎo)參數(shù)的情況下，確定了調(diào)制電極的系列設(shè)計(jì)參數(shù)。其次，為了獲得較好的電極金屬層，研究了真空蒸鍍和電鍍制作工藝。通過對(duì)薄膜厚度、蒸鍍時(shí)間、蒸鍍電流、真空度和電鍍時(shí)間等制備參數(shù)之間關(guān)系的研究，總結(jié)出真空蒸鍍電流120A、蒸鍍時(shí)間4．5min、電鍍時(shí)間35min、Cr／Au金屬薄膜厚度為2．2μm的最佳制備工藝參數(shù)。最后，為了獲得完好的電極圖形，研究了光刻和腐蝕微細(xì)加工制作工藝。通過對(duì)套刻、顯影時(shí)間、腐蝕液配比和腐蝕時(shí)間的研究，總結(jié)出顯