TiN鍍膜玻璃的制備機(jī)理及其光學(xué)電學(xué)性能研究.pdf_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

1、本文在全面介紹節(jié)能玻璃的節(jié)能原理、性能評(píng)價(jià)指標(biāo)和常用制備方法和TiN薄膜的基本物理性能的基礎(chǔ)上，提出制備TiN鍍膜玻璃，使其同時(shí)具有低輻射和陽(yáng)光控制的設(shè)想，并用化學(xué)氣相沉積法制備和研究了TiN薄膜玻璃。文章利用化學(xué)氣相沉積法(APCVD)，以TiCl4和NH3氣體作為反應(yīng)物，以惰性氣體N2作為保護(hù)氣體和載氣，在玻璃基板上沉積TiN薄膜。運(yùn)用XRD、SEM、EDX、四探針電阻測(cè)試儀、紫外－可見(jiàn)分光光度計(jì)和傅立葉紅外光譜儀等測(cè)試手段對(duì)制備的

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