廣義光柵方程與光柵線密度測試及二維CCD全譜光譜儀的研制.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、  文章對光柵光譜儀相關(guān)問題作了一般性的敘述,并對衍射光柵的像差理論作了系統(tǒng)綜述,說明了各種光柵像差理論的優(yōu)缺點。通過對光柵刻線密度表達(dá)方式的分析,解決了光柵廣義方程的形式問題,并對它們在光線追跡中的應(yīng)用作了探討。作者的工作使得對于高級光柵的光線追跡變得更容易和更靈活。 給出了NSRL磁性圓二色光束線上一塊平面變線距光柵的線密度測量結(jié)果,并將測量系統(tǒng)應(yīng)用到非平面光柵線密度的測量,取得的精度好于同期國際同行的測試結(jié)果。在用衍射法進(jìn)

2、行非平面光柵測量時,作者發(fā)現(xiàn)了光柵面形和離軸誤差互相耦合的現(xiàn)象,通過分析離軸誤差影響測量精度的機(jī)理,推導(dǎo)了一般面形的離軸誤差補(bǔ)償算法,使非平面光柵刻線密度的測量準(zhǔn)確度(絕對精度)達(dá)到2X10-4,而多次測量的RMS誤差只有1x10-5。 提出的一套安裝調(diào)試方案實現(xiàn)了光學(xué)系統(tǒng)的精度要求。進(jìn)行的初步測試,獲得了Fe和Cu元素?zé)舻娜V圖像,光譜儀的分辨率約為1萬,可以用于發(fā)射和吸收光譜研究。通過配備不同的探測器,光學(xué)系統(tǒng)的能力還有較大

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