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文檔簡介
1、本文研究了磁場對TEMP-6外磁絕緣型強流脈沖離子源特性的影響。無外加磁場時,磁絕緣表征參數(shù)導流系數(shù)P在二極管中等離子體產生后隨時間迅速增大,等離子體快速擴展,導致二極管短路,無離子束輸出。隨著外加磁場強度從1.1Bcrit增加到1.7Bcrit,導流系數(shù)P隨時間緩慢增大,等離子體的擴展得到有效地抑制,相應二極管電流減小,而束流密度、離子流和離子流產生效率增大,當外加磁場強度進一步增大到2Bcrit,二極管電流,束流密度和離子流均減小,
2、而離子流產生效率與磁場強度為1.7Bcrit條件相近。在外加磁場強度為1.7Bcrit時,獲得適用于材料表面改性的離子源優(yōu)化的工作參數(shù)為:二極管峰值電壓為420kV,離子加速電壓為350kV,二極管電壓脈沖寬度為70ns(FWHM),二極管電流為37kA,離子束流密度為350A/cm2,離子流約為11kA和離子流產生效率約為30%。 采用EB-PVD方法沉積熱障涂層,其粘結層為NiCoCrAlY,陶瓷層為7wt%Y2O3部分穩(wěn)定
3、的ZrO2(YPSZ),其表層為單一的四方(t)ZrO2相,其表層比較致密,但有一定的粗糙度,表面存在一些凸出來的斑點狀ZrO2柱狀晶,柱狀晶粒簇擁成團,團簇間存在間隙。經強流脈沖離子束輻照,其陶瓷層相結構不變;表面柱狀晶特征消失,出現(xiàn)典型的熔融形貌,表面光滑化,頂層間隙被重熔填實,形成微米厚致密封頂層。在1050℃×1h循環(huán)氧化條件下,經HIPIB輻照熱障涂層與原始樣相比,僅有少數(shù)區(qū)域觀察到比較嚴重的氧化和少部分氧化物伸入到粘結層內,
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