2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、鎂合金是實際應用中最輕的金屬結構材料,具有密度小,比強度、比剛度高,減震性好,電磁屏蔽能力強等優(yōu)點,廣泛應用于汽車工業(yè)、航空航天以及電子產品等許多領域。但是鎂合金的耐腐蝕性差,阻礙了鎂合金的廣泛應用。目前主要采用的表面處理方法有:化學轉化、陽極氧化、化學鍍等。磁控濺射技術具有沉積速率高、工藝簡單、薄膜質量好、對環(huán)境友好等優(yōu)點成為薄膜工業(yè)化應用的主要方法。
   本實驗采用磁控濺射法在AZ31鎂合金表面制備了SiNx薄膜。用掃描電

2、鏡、X射線衍射、X射線光電子能譜研究薄膜的晶體結構、表面形貌和化學成分。研究了工藝參數(shù)對SiNx薄膜耐腐蝕性的影響。為了改善SiNx薄膜與鎂合金基體的附著力,在SiNx薄膜與鎂合金基體之間分別沉積了Al、Zr、Ti過渡層金屬膜。采用電化學測試和浸泡實驗研究了復合膜的耐腐蝕性,采用劃格實驗評價膜基附著力。
   研究表明:制備的SiNx薄膜為非晶態(tài)的富N膜,表面光滑致密無明顯的孔缺陷。工藝參數(shù)主要影響薄膜質量和薄膜厚度。內應力導致

3、SiNx薄膜開裂和膜基附著力較差,失去對鎂合金保護作用。金屬膜表面存在小孔缺陷,孔徑大小為10~20μm,其中Zr膜最致密,Al膜表面的小孔數(shù)量最多。浸泡試驗和電化學測試表明金屬膜能夠提高鎂合金的耐腐蝕性。
   劃格試驗表明,Zr-SiNx復合膜、Ti-SiNx復合膜與鎂合金基體的附著力達到1級,Al-SiNx復合膜與鎂合金基體的附著力為2級。電化學測試表明鍍Zr-SiNx復合膜的試樣比鎂合金基體腐蝕電流密度降低三個數(shù)量級,在

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