一種低精度光刻掃描器的研究.pdf

1、由于技術(shù)上的成熟以及廣泛地應(yīng)用，有掩模光刻技術(shù)一直都是占據(jù)著主導(dǎo)地位，而以電子束掃描刻蝕為代表的無(wú)掩?？涛g技術(shù)只是應(yīng)用在特殊的領(lǐng)域，比如高分辨率的少量的特殊器件、光刻掩模版的制造等。在某些領(lǐng)域，這種基于掃描刻蝕的方法就表現(xiàn)出了相對(duì)的優(yōu)勢(shì)，因?yàn)椴挥每紤]商業(yè)制造領(lǐng)域所需要的重要因素，但目前這種無(wú)掩?？涛g方法卻并未得到很好地應(yīng)用，所以本文的目的便是要開展這方面的初步研究和探索。 本文首先對(duì)目前典型的光刻技術(shù)進(jìn)行了介紹，分析了各種光刻技

2、術(shù)的應(yīng)用以及技術(shù)特點(diǎn)，并著重從有無(wú)掩模方面進(jìn)行比較，說(shuō)明了無(wú)掩模刻蝕技術(shù)所表現(xiàn)出的優(yōu)勢(shì)。電子束掃描刻蝕在無(wú)掩模刻蝕原理上有很多值得借鑒，所以對(duì)電子束刻蝕系統(tǒng)中采用的典型掃描方式進(jìn)行了徹底的剖析，目的是為獲得一個(gè)適合本課題的掃描方式。 本課題是要嘗試?yán)霉鈱W(xué)光斑掃描的方法來(lái)實(shí)現(xiàn)無(wú)掩模光學(xué)刻蝕，所以采用了電子束刻蝕技術(shù)中的光柵式的掃描曝光方式，由于本系統(tǒng)中采用的特殊實(shí)現(xiàn)方法使得刻蝕精度，難以達(dá)到一般光學(xué)刻蝕能達(dá)到的高精度。為了能達(dá)到