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1、該論文由三部分組成:第一部分研究了直流反應(yīng)磁控濺射制備TiO<,2>薄膜過(guò)程中,沉積速率同濺氣壓、基板同靶的距離(TSD)、基板溫度、氧氬比和油射速率等重要工藝參數(shù)的關(guān)系.第二部分結(jié)合占鎢燈用透明反近紅外節(jié)能薄的研制,逐步給出TiO<,2>/SiO<,3>全質(zhì)復(fù)合膜系的解析設(shè)計(jì)結(jié)果;利用單純形法和n步燁轉(zhuǎn)的共軛梯度法對(duì)γ/4膜系進(jìn)行了優(yōu)化設(shè)計(jì).第三部分利用直流反應(yīng)磁控濺射的方法首次在國(guó)際上制備出具有光催化和光致親水親油雙新特性的TiO<
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