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文檔簡介
1、 本文主要研究了直流濺射系統(tǒng)采用Ar為濺射工作氣體制備出的FeSiAl薄膜的結(jié)構(gòu)和軟磁性能。首先，對在濺射狀態(tài)下制得的FeSiAl薄膜的結(jié)構(gòu)和磁性能隨濺射工藝參數(shù)如濺射功率，濺射氣壓，靶間距等的變化規(guī)律進(jìn)行了討論與分析。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，濺射態(tài)下的FeSiAl薄膜主要由(220)衍射面組成bcc結(jié)構(gòu)的α無序相，它的4πMs可以達(dá)到9.9×106A/m(9.9kGs)。較高的濺射功率，合適的濺射Ar氣壓以及靶間距都有利于降低薄膜的矯頑力Hc
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