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1、隨著器件尺寸縮小至亞微米,器件的穩(wěn)定性和可靠性就顯得更加重要。當(dāng)電荷進(jìn)出于浮柵下方的隧道氧化層時(shí),氧化層逐漸失效,期間產(chǎn)生的陷阱和缺陷直接影響EEPROM器件的可靠性。 論文在對(duì)FLOTOX EEPROM存儲(chǔ)管結(jié)構(gòu)以及工作原理深入分析的基礎(chǔ)上,著重研究了FLOTOX EEPROM器件隧道氧化層在恒流應(yīng)力下特性退化的可靠性問(wèn)題。通過(guò)隧道氧化層的評(píng)估實(shí)驗(yàn)和擦/寫(xiě)實(shí)驗(yàn),得知保證EEPROM可靠性的關(guān)鍵是要盡量減少隧道氧化層中的可動(dòng)電荷
2、和缺陷密度,從而保證EEPROM的“擦/寫(xiě)”質(zhì)量,改善耐久和保持特性。 通過(guò)實(shí)驗(yàn),分析了產(chǎn)生SILC效應(yīng)的機(jī)理、影響SllC電流的因素以及各個(gè)因素對(duì)SIlC的貢獻(xiàn);通過(guò)模擬了FLOTOX EEPROM的工作過(guò)程,分析了EEPROM在恒流應(yīng)力下隧道氧化層的退化機(jī)理,并提出了減小EEPROM的SILC的方法。 通過(guò)實(shí)驗(yàn)提出了一種簡(jiǎn)單準(zhǔn)確的預(yù)測(cè)EEPROM壽命的方法,并基于FLOTOXEEPROM的閾值電壓模型,總結(jié)了FLOT
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