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1、光學(xué)薄膜是激光系統(tǒng)中的重要組成部分,研究薄膜抗激光損傷,不斷提高薄膜的損傷閾值,對(duì)研制和發(fā)展高能激光系統(tǒng)具有重要意義?! ”菊撐尼槍?duì)高損傷閾值的中紅外波段的激光薄膜的優(yōu)化設(shè)計(jì)、制備工藝、參數(shù)測(cè)試等方面進(jìn)行了系統(tǒng)研究。論文所取得的主要研究成果包括:1.給出了激光薄膜的基本設(shè)計(jì)理論和方法,詳細(xì)討論了中遠(yuǎn)紅外光學(xué)薄膜制備過(guò)程中有關(guān)基板材料的選取、拋光和清洗工藝、薄膜材料的選取、熱蒸發(fā)、濺射和離子鍍等薄膜沉積方法以及基板溫度、淀積速率和真空度
2、等工藝參數(shù)如何確定等多方面的關(guān)鍵技術(shù),從而為中遠(yuǎn)紅外激光薄膜的設(shè)計(jì)和制備奠定了基礎(chǔ)。2.建立了多層光學(xué)薄膜的溫度場(chǎng)理論模型,給出了相應(yīng)的熱傳導(dǎo)方程組。采用交替隱型技術(shù),編制了激光輻照下光學(xué)薄膜的溫度場(chǎng)分布的計(jì)算模擬程序,并用美國(guó)斯坦福大學(xué)的計(jì)算結(jié)果進(jìn)行了詳細(xì)校核,證實(shí)了所編制程序的正確性和可靠性。3.討論了薄膜缺陷的分類(lèi)、特點(diǎn)、成因和作用。4.利用表面熱透鏡技術(shù),建立了光學(xué)薄膜微弱吸收測(cè)量裝置。首次在國(guó)內(nèi)測(cè)量了中紅外波段激光輻照下采用不
3、同工藝鍍制的ZnS和YbF3單層薄膜以及YbF3/ZnS多層薄膜的微弱吸收,詳細(xì)討論了光學(xué)薄膜的吸收與薄膜鍍制工藝的關(guān)系。5.通過(guò)測(cè)量薄膜的曲率變化計(jì)算薄膜中應(yīng)力的方法,利用Vecco干涉儀,首次在國(guó)內(nèi)測(cè)量了YbF3、ZnS和ZnSe等紅外薄膜材料的應(yīng)力,在此基礎(chǔ)上,討論了中紅外激光薄膜的最佳應(yīng)力匹配的膜料組合。6.針對(duì)中紅外激光系統(tǒng)對(duì)激光器高反射腔鏡、CaF2窗口增透膜以及共孔徑分光鏡的特殊要求,詳細(xì)討論了這三類(lèi)薄膜膜系的優(yōu)化設(shè)計(jì)、薄
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