UV-LIGA工藝中若干關(guān)鍵技術(shù)的研究.pdf

1、隨著MEMS技術(shù)的不斷發(fā)展與MEMS器件加工工藝的不斷完善,應(yīng)用MEMS技術(shù)設(shè)計(jì)并制造各種微慣性器件成為研究的熱點(diǎn)。微慣性器件具有體積小、質(zhì)量輕、集成度高、能耗低等優(yōu)點(diǎn),因而在航空航天、軍事等領(lǐng)域中有著十分廣泛的應(yīng)用前景。微慣性器件的加工方法主要有薄膜工藝、體硅工藝、UV-LIGA工藝等等,UV-LIGA工藝具有加工結(jié)構(gòu)深寬比大、Z向加工能力好、材料選取范圍寬等優(yōu)點(diǎn),因而采用UV-LIGA工藝加工微慣性器件具有更寬的加工能力與更大的優(yōu)越

2、性。本文以UV-LIGA工藝作為研究對象,對SU-8光刻工藝進(jìn)行參數(shù)優(yōu)化,完成微電鑄實(shí)驗(yàn)平臺搭建,探索直流電鑄工藝參數(shù)的影響與優(yōu)化方法以及換向脈沖電鑄工藝的參數(shù)選取與優(yōu)化方法。主要內(nèi)容如下:1.SU-8紫外光刻工藝參數(shù)的優(yōu)化通過對SU-8光刻工藝原理的分析,采用實(shí)驗(yàn)手段,通過對比選取不同SU-8光刻工藝參數(shù)得到的結(jié)果,分析不同參數(shù)對于加工結(jié)果的影響,確立優(yōu)化的SU-8光刻工藝參數(shù)。2.直流電鑄工藝結(jié)合UV-LIGA工藝特點(diǎn),確定了氨基磺

3、酸鎳電解液體系,運(yùn)用實(shí)驗(yàn)手段,對直流電鑄工藝參數(shù)進(jìn)行了分析,總結(jié)了溫度、電流密度、pH值等參數(shù)對于電鑄工藝的影響,得到了較為合理的直流電鑄工藝參數(shù)。3.換向脈沖電鑄以直流電鑄加工結(jié)果為基礎(chǔ),實(shí)現(xiàn)換向脈沖電鑄加工工藝,通過對不同參數(shù)的選取,總結(jié)了脈沖時(shí)間參數(shù)與峰值電流密度等參數(shù)的影響與作用,得到了經(jīng)過優(yōu)化的加工結(jié)果。通過對SU-8光刻工藝的優(yōu)化分析,本文得到了較為合理的光刻工藝參數(shù),實(shí)現(xiàn)了側(cè)壁陡直、有足夠強(qiáng)度的光刻工藝結(jié)果。通過對微電鑄工