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文檔簡介
1、計算機硬盤中,磁頭磁盤系統(tǒng)是實現(xiàn)數(shù)據(jù)讀寫的主要機械部分。為獲得較高的信號分辨率并提高硬盤存儲密度,必須盡可能降低磁頭飛高,目前磁頭飛高降低到幾個納米,因此發(fā)生頭盤撞擊的幾率提高,尤其是在磁頭尋軌過程,斜角值和尋軌速度使得磁頭具有盤半徑方向的相對徑向速度,可能影響磁頭的飛行姿態(tài)和飛行的穩(wěn)定性,為此本文研究了磁頭尋軌過程中尋軌速度和斜角效應(yīng)對氣膜承載力的綜合影響;此外,磁頭低飛高下,由于氣體稀薄效應(yīng),連續(xù)流的假設(shè)不再成立,需要對描述磁頭磁盤
2、間氣膜壓強分布的經(jīng)典雷諾方程進(jìn)行修正,本文把由分子模擬得到的滑移長度與局部剪切率的關(guān)系式引入到經(jīng)典雷諾方程的修正中,建立了一種新的滑流修正模型,稱為非線性滑移長度修正模型。 本文以五體Pico頭為例,采用經(jīng)典雷諾方程的F-K滑流修正模型計算磁頭磁盤間氣膜壓強分布,模擬了磁頭的向內(nèi)向外尋軌過程中氣膜壓強分布,結(jié)果表明,磁頭內(nèi)外尋軌時,由于斜角效應(yīng)和磁頭尋軌速度影響,氣膜承載力有明顯的波動,必定引起磁頭飛高的變化,影響磁頭飛行穩(wěn)定性
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