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1、繼中低溫太陽光譜吸收涂層的研制成功和廣泛應(yīng)用,高溫太陽光譜選擇性吸收涂層(簡稱高溫吸收涂層)成為當(dāng)前國際該領(lǐng)域的研究熱點(diǎn),其應(yīng)用前景十分廣闊。 本文在近幾年國際高溫涂層研究的基礎(chǔ)上,根據(jù)理論研究和實驗結(jié)果從幾方面因素如材料、膜層結(jié)構(gòu)、陶瓷中金屬組分等分析了其對高溫吸收涂層效率的影響。 本課題以Mo-Al2O3雙吸收層模型為出發(fā)點(diǎn),利用計算機(jī)模擬了金屬體積分?jǐn)?shù)和膜層厚度變化下整個涂層的吸收特點(diǎn),逐步設(shè)計出一系列具有新減反射
2、層結(jié)構(gòu)的選擇性吸收涂層,如Mo-Al2O3/SiO2,W-AlN/SiO2,Ru-Al2O3/SiO2,Ru-CuO/SiO2。這種減反射層結(jié)構(gòu)適用于大多數(shù)金屬陶瓷吸收涂層,不僅提高了涂層的吸收率(吸收率α=0.93~0.95),同時有效的控制了發(fā)射率(350℃下發(fā)射率ε=0.03~0.05)。鑒于材料組成本身良好的熱穩(wěn)定性以及在某些情況下更簡單的制備工藝,有望應(yīng)用在高溫集熱裝置上。 研究的幾點(diǎn)創(chuàng)新性還在于:1. 首次利用兩種折
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