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文檔簡介
1、隨著電子技術(shù)的發(fā)展,電子設(shè)備的廣泛應(yīng)用,電磁輻射對人們生活的影響日益增加。電磁干擾的危害主要有兩個方面:(1)導(dǎo)致電子設(shè)備產(chǎn)生噪音甚至是故障;(2)危害人類的身體健康。因此,屏蔽電磁輻射顯得非常重要。很多電磁屏蔽材料被用來防止電磁輻射的干擾。在很多領(lǐng)域如高靈敏的醫(yī)療診斷設(shè)備、個人電子設(shè)備的顯示屏、航天飛行器的窗戶,要求材料既具有電磁屏蔽功能,又具有較高的可見光透射率。透明電磁屏蔽玻璃很好的符合了這些要求。本文的創(chuàng)新點:用磁控濺射的方法在
2、室溫下在載玻片襯底上制備了AZO/Ag/AZO三層膜和AZO/Ag/AZO/Ag/AZO五層膜,基于電磁屏蔽多層膜的光學(xué)薄膜設(shè)計矩陣法理論,對多層膜系進行設(shè)計計算,確定各層膜材料及膜厚的基本參數(shù),為實驗提供了理論依據(jù),使鍍膜玻璃具有高的可見光透射率和高的電磁屏蔽效能,研究了Ag納米薄膜在室溫大氣條件下的氧化過程和機理。 本文得出的主要結(jié)論如下: 1)對于AZO/Ag/AZO三層膜系,當(dāng)銀膜的厚度為16nm,AZO膜的厚度
3、為45nm時,膜系有最佳的光電、電磁性能,方塊電阻為5.02Ω/sq,最大可見光透射率為86%,紅外反射率為95%,電磁屏蔽效能為35dB(5.85-8.2GHz)。 2)對于AZO/Ag/AZO/Ag/AZO五層膜系,當(dāng)銀膜的厚度為16nm,AZO膜的厚度為92nm時,膜系有最佳的光電、電磁性能,方塊電阻為2.73Ω/sq,最大可見光透射率為70%,紅外反射率為99%,電磁屏蔽效能為40dB(5.85-8.2GHz)。
4、 3)Ag納米薄膜暴露在室溫大氣環(huán)境中會被逐漸氧化,光學(xué)和電學(xué)性能都發(fā)生了很大的變化,失去了良好的導(dǎo)電性能和對紅外的高反射性能。Ag2S和Ag2SO4先是點狀分布在Ag膜表面,等Ag膜完全氧化后,形成連續(xù)致密的Ag2S(含少量的Ag2SO4)薄膜。Ag納米薄膜暴露在室溫大氣環(huán)境中氧化時,O2開始只是化學(xué)吸附在薄膜表面,引起表面重構(gòu),沒有Ag2O生成。然后含S的小分子氣體(如:H2S,SO2)也化學(xué)吸附在薄膜表面,引起表面重構(gòu)。最后Ag納
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