玻璃瓶?jī)?nèi)壁SiO2薄膜的PECVD法沉積及其阻隔性能研究.pdf

1、生命健康是人類社會(huì)發(fā)展永恒的主題和不斷追求的目標(biāo)。隨著人民生活水平的提高，與健康息息相關(guān)的食品和藥品安全也越來越受到人們的關(guān)注。食品和藥品的安全，不僅與其本身的質(zhì)量有關(guān)，其儲(chǔ)存和流通環(huán)節(jié)的包裝也至關(guān)重要，已成為不容忽視的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。其中，在藥品包裝安全性方面，包裝容器與藥物制劑的相容性一直是全球制藥行業(yè)關(guān)注并持續(xù)研究的重點(diǎn)問題之一。通過在包裝內(nèi)壁沉積一層阻隔膜可以有效改善包裝與藥物相容性。本文利用自行設(shè)計(jì)開發(fā)的微波增強(qiáng)PECVD生長(zhǎng)系統(tǒng)，

2、通過密封靜氣法，采用硅烷(SiH4)作為硅源，氬氣(Ar)作為載氣及稀釋氣體，氧氣(O2)作為氧化氣體，通過系統(tǒng)優(yōu)化工藝流程和工藝參數(shù)，成功地在玻璃瓶?jī)?nèi)壁沉積得到了均勻穩(wěn)定、具有高阻隔性的SiO2薄膜，其耐溫、耐水性良好，可望應(yīng)用于特殊要求的水劑藥物包裝。本文主要內(nèi)容包括:
　　1、系統(tǒng)研究了Ar/O混合等離子體預(yù)處理流程和工藝對(duì)玻璃瓶光學(xué)性能、耐水性及后續(xù)SiO2薄膜沉積的影響。掌握了最佳的薄膜沉積襯底預(yù)處理參數(shù):功率P=250

3、W，處理時(shí)間t=40s，Ar∶O2=12∶4sccm，瓶?jī)?nèi)壓強(qiáng)P=200Pa。
　　2、利用密封靜氣法，著重研究了主要工藝參數(shù)如沉積功率、氧分壓、沉積壓強(qiáng)以及沉積時(shí)間等對(duì)SiO2薄膜形貌和性能的影響規(guī)律。揭示了藥瓶?jī)?nèi)壁SiO2薄膜沉積最佳工藝條件為:功率P=200W，沉積時(shí)間t=20s，氣體比例(10％SiH4+90％Ar)∶O2=24∶8sccm，沉積壓強(qiáng)P=190Pa。
　　3、通過對(duì)沉積了SiO2薄膜的玻璃瓶的工藝性能