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文檔簡介
1、該文利用磁控反應濺射技術,以高純度鈦(Ti)為靶材,氧氣為活性氣體,在PET基底上反應濺射沉積TiO<,2>,將納米TiO<,2>的光催化氧化特性應用于高聚物表面改性,為進一步開發(fā)抗菌織物打下基礎.首次在高分子PET基底上濺射沉積了氧化鈦薄膜.利用掃描電鏡(SEM)結合原子力顯微鏡(AFM)研究了的濺射膜的表面形貌及成膜機理,并系統(tǒng)研究了各工藝條件(放電功率、工作壓力、濺射處理時間、氧氬比等)對表面形貌的影響.利用光電子能譜(XPS)研
2、究了工作氣壓及氧氬比的變化與濺射膜的結構及各組分比例的關系.計算了濺射膜的鈦氧比,發(fā)現不同的工藝條件對濺射膜的組成有很大的影響.利用X射線衍射法(X-ray)對濺射沉積膜的表面物相結構進行了研究,發(fā)現在該實驗室條件下濺射生成的膜均是無定型結構.利用織物基底,通過濺射制備了抗菌織物,并對其應用性能(包括抗菌性及牢度)進行了實步研究.發(fā)現制備的織物具有一定的抗菌性,并且有相當的牢度.說明利用射頻磁控反應濺射TiO<,2>制備抗菌織物具有潛在
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