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文檔簡介
1、本文采用試驗方法研究了硅摻雜類金剛石(Si-DLC)膜的微觀摩擦力學(xué)性能,同時從數(shù)值模擬的角度進(jìn)一步分析了硅材料微機電器件表面鍍Si-DLC膜前后,其彈塑性接觸性能和摩擦熱分布的規(guī)律。
首先,介紹了微波電子回旋共振等離子體增強化學(xué)氣相沉積和等離子體增強非平衡磁控濺射兩種工藝綜合制備Si-DLC膜的原理和具體工藝。所制樣品表征結(jié)果表明Si-DLC膜是非晶膜。采用原子力顯微鏡(AFM)分析了膜表面形貌和濺射偏壓的關(guān)系,隨著基底
2、負(fù)偏壓的增加,薄膜的表面粗糙度值逐漸減小,濺射偏壓為400V左右時,薄膜表面形貌平滑,且表面粘附力值小。
其次,采用微米級別的AFM球頭探針對Si-DLC膜進(jìn)行了摩擦實驗。研究了微米尺度下,外加載荷和掃描速率對薄膜摩擦性能的影響??紤]粘附的影響,提出了適用于微觀低載荷接觸摩擦力表征的修正Amonton公式。分析了摩擦系數(shù)與表面形貌粗糙峰之間的關(guān)系,根據(jù)薄膜表面粗糙峰的分布,建立了微米尺度下球頭探針與薄膜表面粗糙峰的等效接觸
3、模型,并推導(dǎo)了摩擦力關(guān)于載荷和形貌參數(shù)的函數(shù)表達(dá)式,表明單位面積接觸粗糙峰密度對摩擦力大小起著主導(dǎo)作用。所建接觸模型成功解釋了摩擦實驗現(xiàn)象產(chǎn)生的原因。
接著,采用尖頭探針、球頭探針和平頭探針對Si-DLC膜進(jìn)行了摩擦實驗,進(jìn)一步研究了薄膜的摩擦力學(xué)性能。探討了不同接觸尺度下,薄膜表面粘附力及摩擦產(chǎn)生的機理。建立了不同探針與膜表面粗糙峰的接觸模型,推導(dǎo)了表面粘附力與接觸面積的關(guān)系表達(dá)式,表明在微觀接觸中,接觸面積的大小對粘附
4、力起著主導(dǎo)作用。尖頭探針與薄膜表面的微觀摩擦系數(shù)取決于表面粗糙峰的斜率,與粗糙峰的高度相關(guān)不大;球頭探針與薄膜表面的摩擦力主要取決于單位面積接觸粗糙峰密度;平頭探針與薄膜表面的摩擦力取決于外加載荷大小,表面形貌的微觀尺寸效應(yīng)可忽略。
最后,用有限元數(shù)值方法模擬了硅材料微機電器件表面鍍Si-DLC膜前后,其彈塑性接觸及摩擦熱分布的性能。用ansys10.0建立了彈塑性接觸和摩擦熱分析的有限元幾何模型,分析了彈性階段和彈塑性階
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