太赫茲波段AlGaN-GaN共振隧穿二級(jí)管研究.pdf_第1頁(yè)
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1、共振隧穿二極管(RTD)工作頻率高,能產(chǎn)生太赫茲頻波,受到了強(qiáng)烈的關(guān)注,而GaAs、InP材料制作的RTD比較成熟,且最近實(shí)驗(yàn)中報(bào)道,室溫下GaInAs/AlAs RTD工作在1.08THz,輸出功率5.5μW,這是迄今觀察到的RTD最高振蕩頻率。隨著通信對(duì)大功率的要求,GaN等材料的功率優(yōu)勢(shì)凸現(xiàn)出來(lái),因此GaN基RTD最近受到大量關(guān)注。然而因AlGaN/GaN異質(zhì)結(jié)有強(qiáng)烈的極化效應(yīng),且GaN及其異質(zhì)結(jié)材料中存在大量的缺陷,它們對(duì)RTD

2、的電流特性影響至關(guān)重要,所以到目前為止,GaN基RTD直流特性很不穩(wěn)定,且會(huì)隨著測(cè)量次數(shù)增加而衰退,更無(wú)法得到穩(wěn)定的太赫茲波。鑒于此,本文重點(diǎn)考慮了界面陷阱對(duì)AlGaN/GaN RTD的影響,對(duì)其直流特性進(jìn)行了相關(guān)研究,并建立其SPICE器件模型,首次得到GaN RTD的交流特性。主要研究成果如下:
   1)總結(jié)了當(dāng)今GaN RTD領(lǐng)域的發(fā)展現(xiàn)狀和主要問(wèn)題,研究了RTD的工作原理及其各種電流模型和電路模型。同時(shí),對(duì)比了GaN相

3、對(duì)于GaAs用于RTD制造的優(yōu)勢(shì),最突出的優(yōu)勢(shì)就是室溫下的輸出功率,GaN基RTD能輸出mW級(jí),而GaAs RTD卻在μW級(jí)。
   2)詳細(xì)研究了勢(shì)壘勢(shì)阱變化,發(fā)射區(qū)摻雜濃度變化,發(fā)射區(qū)Spacer變化,勢(shì)壘Al組分變化在對(duì)GaN RTD器件直流特性的影響。
   3)重點(diǎn)研究界面陷阱這一關(guān)鍵因素對(duì)器件電流的影響,得到一定面缺陷密度下,器件直流特性和負(fù)阻特性不會(huì)衰退,在一定面電荷密度下,器件負(fù)阻特性退化厲害,這對(duì)生長(zhǎng)器

4、件具有指導(dǎo)意義。
   4)提取了GaN RTD的寄生參數(shù),建立了器件的電路模型,通過(guò)模型搭建了負(fù)阻振蕩電路。并首次得到GaN RTD的功率和效率。同時(shí)還得到了器件的S參數(shù),為其他參數(shù)做擬合準(zhǔn)備。
   綜上,本文對(duì)AlGaN/GaN RTD進(jìn)行了全面研究,并得到在面缺陷密度高于106cm-2器件負(fù)阻明顯退化,同時(shí)得到AlGaN/GaN RTD振蕩器的穩(wěn)定太赫茲波,在143GHz到1THz的輸出功率為22mW左右,DC-

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