射頻等離子體基離子注入DLC-TiN-,x-膜結(jié)構(gòu)及摩擦學(xué)行為.pdf

1、　　本文以C2H2+H2和C2H2+Ar為氣源，用射頻激發(fā)等離子體基離子注入技術(shù)，在30CrMnSi鋼基體上成功地制備出含氫DLC膜，系統(tǒng)地研究了DLC膜的微觀結(jié)構(gòu)及其與工藝參數(shù)的關(guān)系、DLC膜的熱穩(wěn)定性和摩擦學(xué)行為。在對比研究了復(fù)合離子注入TiCx膜、TiNx膜以及離子注入混合、非平衡磁控濺射TiNx膜結(jié)構(gòu)和性能的基礎(chǔ)上，成功設(shè)計并制備出以離子注入混合TiNx膜為過渡層的TiNx/DLC多層膜。考慮實際應(yīng)用條件，還研究了粗糙度和摩擦副

2、對TiNx/DLC多層膜摩擦性能的影響?！　±肵射線光電子譜(XPS)研究了薄膜的成分和C、N、Ti及O元素的化學(xué)態(tài)，采用盧瑟福背散射(RBS)測試了DLC膜的H含量和膜厚；利用Raman光譜和傅立葉變換紅外光譜(FTIR)測試分析了DLC膜的微觀結(jié)構(gòu)，使用透射電子顯微鏡(TEM)對TiCx和TiNx膜的相結(jié)構(gòu)及組織形態(tài)進(jìn)行了研究；使用納米壓痕技術(shù)測試了薄膜的納米硬度和彈性模量；利用劃痕法測量了薄膜的剝落臨界載荷；通過球-盤式摩擦試