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文檔簡介
1、本文利用自行研制的微弧氧化電源設(shè)備,研究了微弧氧化膜層的生長過程,分析了電解質(zhì)溶液電導(dǎo)率和電流密度對微弧氧化膜層生長過程的影響,制取了厚度為250μm以上的微弧氧化膜層。結(jié)果表明,提高溶液電導(dǎo)率能降低微弧氧化膜層粗糙度,提高膜層生長速率,電流密度與膜層生長速率成線性關(guān)系,提高電流密度能提高膜層生長速度。本文研究了微弧氧化的工藝參數(shù)對微弧氧化膜層的磨損行為的影響。表面粗糙度越低,磨損性能越好;厚度高的膜層在保證其光潔度的條件下耐磨性能較好
2、。電流密度、脈沖頻率和波形對膜層磨損行為有影響。降低電流密度能提高膜層磨損性能;脈沖頻率對膜層磨損行為的影響不是簡單的線性關(guān)系,本文結(jié)果表明,頻率為500Hz時磨損性能最好;三角波制取的膜層耐磨性能優(yōu)于矩形波制取的膜層。對比了微弧氧化膜層和電鍍硬鉻膜層的磨損行為,結(jié)果表明微弧氧化膜層的耐磨性優(yōu)于電鍍硬鉻膜層,為微弧氧化工藝替代電鍍硬鉻工藝?yán)碚撘罁?jù)與技術(shù)保證。利用掃描電鏡、金相顯微鏡和X射線衍射觀察研究了微弧氧化膜層的表面及橫截面微觀形貌
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