版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領
文檔簡介
1、多晶硅太陽電池是光伏市場的主流,定向凝固技術是生產(chǎn)多晶硅的主要方法,對定向凝固多晶硅鑄錠生產(chǎn)過程中的冷卻階段的工藝優(yōu)化有利于降低能耗,提高多晶硅質(zhì)量。本文在多晶硅鑄錠常規(guī)冷卻工藝基礎上,通過有限元模擬方法首先考察了6條不同Tc2升溫幅值的工藝曲線,6條Tc2與Tc1不同交點的工藝曲線對多晶硅鑄錠中的溫度場、應力場和位錯密度的影響。位錯密度的分析分別采用了CRSS位錯模型和HAS位錯模型。結(jié)果發(fā)現(xiàn):Tc2不經(jīng)歷升溫階段,且Tc1與Tc2交
2、點在800 K時,多晶硅鑄錠中平均von Mises應力、最大應力和位錯密度均最小。不同工藝曲線下的硅錠內(nèi)的最終應力分布和位錯密度分布情況基本相同,僅數(shù)值上的微小差異。HAS位錯模型因引入了蠕變而更符合實際,HAS位錯模型中的硬化指數(shù)取常數(shù)或變量,以及等效應力采用CRSS模型中的表達式對結(jié)果影響較小,但硅錠上表面的幾何形狀對結(jié)果影響較大,為水平面時應力和位錯密度均最小。
然后模擬考察了不同的出爐溫度點對硅錠中的應力和位錯密
3、度的影響。發(fā)現(xiàn):600 K溫度出爐為最好,高于它的650 K和700 K溫度出爐均有應力增大,位錯密度升高的現(xiàn)象。
最后以小尺寸硅塊為對象,分別做了2 K/min和5 K/min冷卻速率下硅塊位錯密度的模擬與實驗對比分析。模擬結(jié)果表明,5 K/min冷卻條件下輻射對流狀況更加劇烈,溫差、平均von Mises應力及位錯增殖相對2K/min冷卻條件結(jié)果也更大。之后通過實驗發(fā)現(xiàn)5 K/min冷卻速率下總體位錯密度升高15.4%
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 摻鎵物理法多晶硅鑄錠研究.pdf
- 多晶硅鑄錠工藝研究和數(shù)值模擬.pdf
- 多晶硅鑄錠的研究與熱場模擬.pdf
- 多晶硅鑄錠爐熱場設計及計算機模擬.pdf
- 多晶硅鑄錠爐溫度場可視化分析及其結(jié)構(gòu)優(yōu)化.pdf
- 多晶硅還原工藝及裝備優(yōu)化.pdf
- 物理法太陽能級多晶硅鑄錠工藝的研究.pdf
- 多晶硅雙體鑄錠爐加熱電源的研究.pdf
- 多晶硅氫化爐的多場仿真及其優(yōu)化.pdf
- 多晶硅鑄錠爐控制系統(tǒng)的研究和設計.pdf
- 多晶硅清洗工藝的優(yōu)化.pdf
- 多晶硅產(chǎn)品
- 多晶硅鑄錠內(nèi)嵌雜質(zhì)引發(fā)熱致應力的數(shù)值分析.pdf
- 大晶粒多晶硅鑄錠生長的熱場設計與數(shù)值模擬.pdf
- 多晶硅鑄錠爐加熱室的結(jié)構(gòu)設計技術分析
- [學習]多晶硅原生硅料的鑄錠與電池片的性能參數(shù)講解
- [學習]多晶硅行業(yè)現(xiàn)狀及工藝過程介紹
- 多晶硅生產(chǎn)過程的模擬分析.pdf
- 多晶硅鑄錠爐操作維護說明書修改版最終版
- 多晶硅漿料干燥機內(nèi)流場模擬及優(yōu)化.pdf
評論
0/150
提交評論