基于多像素掃描調制的數(shù)字光刻方法研究.pdf

1、近年來，無掩模數(shù)字光刻技術在微電子及相關領域有著廣泛應用，以低成本、便捷、靈活性高等特點，成為光刻業(yè)界研究的熱點。但是在微光學器件制作生產(chǎn)過程中，常常會出現(xiàn)光刻圖形邊緣模糊、工件結構不規(guī)整、成像質量差等問題。在此背景下，本論文結合DMD（Digital Mirror Device）無掩模光刻系統(tǒng)的優(yōu)勢和理論特性，提出了一種基于多像素掃描調制的數(shù)字光刻方法，從理論和實驗進行研究探索，用以改善數(shù)字光刻成像質量。主要研究內(nèi)容包括：
　　

2、1、通過對多像素掃描調制移動光刻技術的理論研究，分析得出掃描步長、掃描步數(shù)及相對傾斜角θ與子像素陣列之間的映射關系。接下來應用計算機仿真開展的驗證性實驗也證明了多像素掃描調制移動光刻技術在改善成像質量上的可行性，同時根據(jù)對均方根誤差分析得出掃描步數(shù)和相對傾斜角θ對成像質量存在影響。
　　2、結合多像素掃描調制移動光刻技術的理論研究，提出了一種利用多像素掃描調制移動光刻技術制作任意3D微結構的新方法，為簡捷、快速地制作微結構器件提供

3、了一種新思路。通過理論分析及公式推導得出目標劑量分布和累積劑量分布的數(shù)學表達式，以微透鏡數(shù)字掩模設計為例，分別討論了數(shù)字掩模設計、曝光區(qū)域優(yōu)化及圖形邊緣優(yōu)化處理的方法。多像素掃描調制數(shù)字光刻方法能夠克服諸多缺點，如制作工藝繁瑣、設計靈活性小、穩(wěn)定性差等，并且能夠很好的規(guī)避多次掃描曝光中周期長及臺階問題對3D微結構面形的影響。
　　3、簡單介紹了多像素掃描調制系統(tǒng)中的一些重要組成部分，以及對光刻工藝步驟進行了簡要說明，同時開展了單張