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文檔簡介
1、本文采用反應(yīng)性磁控射頻濺射法，在不同的氧分壓下制備了NiOx膜，研究了其特性和變色機(jī)理。XRD結(jié)構(gòu)分析表明，所制備的NiOx膜為多晶結(jié)構(gòu)，濺射氧分壓影響NiOx膜的優(yōu)先生長方向。XPS研究表明，濺射制備的NiOx薄膜的主要成份為Ni、O，并且是富氧的非理想配比薄膜。膜中有大量的Ni空位存在，導(dǎo)致Ni產(chǎn)生了混合價(jià)態(tài)。比較了漂白態(tài)和著色態(tài)的XPS圖，可知電致變色是由Ni2+()Ni3+的轉(zhuǎn)變引起的。運(yùn)用循環(huán)伏安法對NiOx薄膜的電變色過程進(jìn)
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