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1、利用反應(yīng)磁控濺射方法,在硅片表面制備了二氧化鈦納米薄膜材料。研究了其工藝參數(shù),如:沉積時(shí)間、氧氣流量、工作壓力、電源功率及靶基距對(duì)薄膜晶體結(jié)構(gòu)、成分和親水性能的影響,得到了研究的最佳工藝參數(shù)。為了便于比較,在此工藝參數(shù)基礎(chǔ)上制備了摻氮TiO2薄膜,研究了退火處理對(duì)薄膜結(jié)構(gòu)和親水性的影響。用接觸角測(cè)量?jī)x對(duì)薄膜的親水性能進(jìn)行表征。用臺(tái)階儀測(cè)量了薄膜的厚度;采用X射線衍射、X射線光電子能譜、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡等測(cè)試手段研究了薄膜的晶體結(jié)構(gòu)、薄膜的
2、組成成分和表面形貌納米粒子的大小等,并分析各因素對(duì)薄膜親水性的影響。
研究表明:TiO2薄膜和摻氮TiO2薄膜的親水性都與退火溫度有關(guān)。退火處理后,水在薄膜表面的接觸角急劇下降,薄膜的親水性增強(qiáng)。摻氮TiO2的親水性能優(yōu)于TiO2薄膜,摻氮有利于TiO2銳鈦礦晶型的形成,提高了薄膜的結(jié)晶度,改善了薄膜的親水性。在無(wú)光照條件下,摻氮TiO2薄膜的親水性可維持20天左右,經(jīng)可見(jiàn)光照射后,摻氮TiO2薄膜的親水性可以恢復(fù),而TiO2
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