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1、電子鋁箔是高端鋁箔,主要用于電子工業(yè)的重要元器件電解電容器。近年來(lái),隨著電子工業(yè)的迅猛發(fā)展,機(jī)電產(chǎn)品的性能和集成度越來(lái)越高,這對(duì)電子元器件提出了更高的要求--在保證和提高性能的同時(shí)有盡量小的體積。因此電解電容器小型化(即實(shí)現(xiàn)高比電容)往往是高性能電器產(chǎn)品發(fā)展的關(guān)鍵之一。目前,國(guó)內(nèi)高壓電子鋁箔(即高壓箔)的需求量在1.5萬(wàn)噸/年左右,并呈20%的速度逐年遞增,而國(guó)內(nèi)能夠生產(chǎn)高壓箔的廠家卻很少,需要大量進(jìn)口。因此,研究國(guó)內(nèi)外高壓箔的組織結(jié)構(gòu)
2、以提高其性能,對(duì)我國(guó)鋁加工產(chǎn)業(yè)向更高層次發(fā)展,解決高壓箔國(guó)產(chǎn)化具有重要意義。
本文采用SIMS、化學(xué)成分分析、SEM、EDS、EBSD、直流電化學(xué)腐蝕及力學(xué)性能測(cè)試等手段,對(duì)日本昭和、三菱與國(guó)產(chǎn)眾和三種成品高壓箔中主要雜質(zhì)元素含量及Fe元素的分布、表面質(zhì)量、位錯(cuò)坑、晶粒大小、力學(xué)性能、立方織構(gòu)含量及耐電解質(zhì)腐蝕性進(jìn)行了對(duì)比研究。結(jié)果表明:影響高壓箔腐蝕化成后比電容的主要因素為雜質(zhì)元素Fe的含量及其分布、立方織構(gòu)含量及表面質(zhì)
3、量。找出了國(guó)產(chǎn)與日本成品高壓箔存在的差距,并提出了改進(jìn)措施和建議。
對(duì)高壓箔主要雜質(zhì)元素含量的對(duì)比研究表明:昭和的平均Fe含量最低,為0.0018%;眾和的最高,為0.0027%。一般地,F(xiàn)e含量增加,立方織構(gòu)會(huì)變?nèi)?。高壓箔中的Fe含量要嚴(yán)格控制在0.0020%以內(nèi)。而眾和的明顯偏高,因此需要降低國(guó)產(chǎn)眾和中的平均Fe含量。日本高壓箔中Fe元素沿厚度方向近似呈直線分布,而國(guó)產(chǎn)眾和卻呈曲線分布,且心部有雜質(zhì)Fe元素的富集。眾和
4、中Fe原子在基體中的不均勻分布,導(dǎo)致其高壓箔的晶粒粗大、腐蝕不均勻,進(jìn)而會(huì)降低了腐蝕箔的比電容。昭和的平均Si含量最高,為0.0022%;眾和的最低,為0.0019%,兩者差距較小,Si對(duì)立方織構(gòu)形成過(guò)程的負(fù)面影響遠(yuǎn)沒(méi)有Fe顯著。但Si對(duì)高壓箔性能的影響不是孤立的,還要受到Fe/Si的影響,F(xiàn)e/Si分別為:昭和最小0.8182;三菱居中0.9047;眾和最大為1.4211。兩者共存于高純鋁中時(shí),會(huì)影響彼此存在的形式,F(xiàn)e/Si越小則越
5、有利于提高化成箔的比電容。因此Si含量也要嚴(yán)格控制。
國(guó)產(chǎn)眾和高壓箔表面起伏及缺陷較多,還存在軋制滾壓痕。昭和的平均晶粒為209.1μm,大小適中且晶粒尺寸變化幅度較小;三菱的最小為207.6μm;眾和的平均晶粒為223.2μm,尺寸最大且分布紊亂,大小差異較大。昭和在腐蝕后,立方蝕坑最多為17.51%,這與高壓箔基體中(001)<100>立方取向有直接的關(guān)系。因此,國(guó)產(chǎn)高壓箔的組織結(jié)構(gòu)控制方面與日本還存在一定的差距,需要
6、改進(jìn)。
三種高壓箔的橫向抗拉強(qiáng)度和延伸率均高于軋向;其中三菱高壓箔的抗拉強(qiáng)度最高,橫向28.85MPa,軋向28.30MPa,眾和與昭和的抗拉強(qiáng)度相當(dāng)。高壓箔的拉伸試樣斷口比較平齊,有河流狀花樣和撕裂嶺。不同的位置,硬度存在較小差異,平均硬度日本三菱的最高為17.93HV,眾和的最低為16.77HV。原因三菱的晶粒最為細(xì)小,根據(jù)細(xì)晶強(qiáng)化理論,晶粒越小,其抗拉強(qiáng)度和硬度值就越高。因此國(guó)產(chǎn)高壓箔的在強(qiáng)度方面有待加強(qiáng)。
7、 織構(gòu)對(duì)比研究表明:國(guó)產(chǎn)眾和高壓箔在立方織構(gòu)占有率方面和日本高壓箔水平基本相當(dāng),兩者均可達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平(≥95%)。但國(guó)產(chǎn)眾和的織構(gòu)含量為96.23%較之日本昭和的97.89%與三菱的97.75%還是稍微低些,且國(guó)產(chǎn)眾和高壓箔中還具有其他的織構(gòu)取向,如少量的{124}<211>R織構(gòu)。因此國(guó)產(chǎn)箔中應(yīng)控制非立方織構(gòu)的含量。
通過(guò)實(shí)驗(yàn)優(yōu)化出高壓箔直流電化學(xué)腐蝕工藝參數(shù)如下:腐蝕液:HCl+H2SO4混合溶液,HCl取2.
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