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文檔簡介
1、該文從理論和實驗兩個方面討論了高反膜的設(shè)計以及其在真空環(huán)境中的制備.從Maxwell方程組入手,推導(dǎo)了薄膜的特征矩陣,建立了計算膜系內(nèi)外表面電場強度和磁場強度的導(dǎo)納矩陣,分別對單層及多層薄膜的反射率變化建立了理論模型.對經(jīng)典的規(guī)整膜系進行優(yōu)化計算后,設(shè)計出高反膜膜系.理論分析與計算結(jié)果表明,23層Ti<,2>O<,5>/SiO<,2>膜系是最優(yōu)化的設(shè)計結(jié)果,在工作區(qū)間內(nèi)能夠達到理想的反射效果.此外,對薄膜的損耗問題進行了探討,找到了降低
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