版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡介
1、GaN基功率放大器的線性度是其應(yīng)用于無線基站通訊系統(tǒng)的一個重要指標(biāo)。獲得較寬電壓范圍的高跨導(dǎo)區(qū)域是提高器件的線性度的基本要求。本文采用能帶剪裁工程成功地制備了具有4V以上高跨導(dǎo)區(qū)電壓擺幅的AlGaN緩沖層復(fù)合勢壘高電子遷移率晶體管(HEMT)器件,為高線性度AlGaN/GaN HEMT器件的實現(xiàn)奠定了基礎(chǔ)。
本文首先通過自洽求解一維薛定諤/泊松方程,對復(fù)合勢壘結(jié)構(gòu)的能帶圖、載流子分布特性以及電子波函數(shù)進(jìn)行了模擬仿真。模擬結(jié)
2、果表明AlGaN緩沖層可以有效地抑制溝道電子向緩沖層的注入,顯著地降低載流子在副阱中的分布,將激發(fā)態(tài)的波函數(shù)完全限制在兩個溝道阱的耦合區(qū)中,可以有效地提高溝道耦合作用,改善器件的線性度;對復(fù)合勢壘層厚度優(yōu)化設(shè)計時,器件柵控能力主要依賴于主勢壘層,阱之間耦合作用的調(diào)制則主要取決于副勢壘。
AlGaN/GaN HEMTS器件工作的穩(wěn)定性和可靠性離不開表面鈍化。原位生長具有與生俱來的高質(zhì)量界面,界面態(tài)密度相對較小。本文在常規(guī)異質(zhì)
3、結(jié)構(gòu)上采用MOCVD原位Si3N4鈍化技術(shù),成功地制備了具有較高電流水平的AlGaN/GaNHEMT器件,器件的飽和電流為928mA/mm@Vg=0V,峰值跨導(dǎo)為234mS/mm,fT為20.5GHz,fmax為35.75GHz。Si3N4層改善了器件歐姆接觸特性和肖特基特性,顯著地降低了緩沖層漏電,可以在不改變原有工藝的基礎(chǔ)上流片。對原位Si3N4層鈍化HEMT器件的柵延遲和電流崩塌測試結(jié)果表明,Si3N4層鈍化了器件表面的陷阱,可以
4、有效地抑制器件的電流崩塌效應(yīng)。
本文著重開展了復(fù)合勢壘HEMT器件的制備和特性分析。復(fù)合勢壘結(jié)構(gòu)能夠有效地抑制柵泄漏電流并顯著地降低器件的電流崩塌效應(yīng)。CV測試結(jié)果表明器件存在強耦合阱,副阱由于AlGaN緩沖層引起的導(dǎo)帶提升,載流子密度很低。柵后低溫退火改善了器件的擊穿特性,因為退火鈍化了部分的快態(tài)陷阱。退火后金屬與AlGaN材料表面形成緊密的肖特基接觸,電子通過陷阱隧穿的通道減少,肖特基特性得到改善。器件變溫測試結(jié)果表明
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 高電子遷移率晶體管的建模和優(yōu)化.pdf
- 高電子遷移率晶體管建模及參數(shù)提取.pdf
- GaN高電子遷移率晶體管耐壓機理研究.pdf
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管模型研究.pdf
- 增強型GaN高電子遷移率晶體管的研究.pdf
- algan_gan高電子遷移率晶體管tcad仿真研究
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管的模型研究.pdf
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管TCAD仿真研究.pdf
- 使用LiNbO3作為柵介質(zhì)層的高電子遷移率晶體管研制.pdf
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管器件建模及特性研究.pdf
- 壓強對AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管輸運特性的影響.pdf
- GaN基異質(zhì)結(jié)及高電子遷移率晶體管的關(guān)鍵機理研究.pdf
- 氮化鎵基高電子遷移率晶體管逆壓電可靠性研究.pdf
- GaN基高電子遷移率場效應(yīng)晶體管的熱響應(yīng)研究與模擬.pdf
- GaN高電子遷移率晶體管特性及其功率放大器研究.pdf
- AlGaN-GaN高電子遷移率晶體管可靠性與新結(jié)構(gòu)的研究與設(shè)計.pdf
- P型柵極高電子遷移率晶體管可靠性研究.pdf
- IDTBT薄膜晶體管遷移率和電輸運性質(zhì)研究.pdf
- 砷化鎵異質(zhì)結(jié)和高電子遷移率晶體管工藝器件的良品率改善.pdf
- 銻化物高空穴遷移率場效應(yīng)晶體管的研究.pdf
評論
0/150
提交評論