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1、PreparationandPhotocatalyticActivityofCoupledSn02Cu20PorousFilmsAThesisSubmittedtoZhejiangNormalUniversityfortheRequirementoftheMasterofScienceDegreebyBinXuSupervisedbyProfZhenjiangNiuKeyLaboratoryforReactiveChemistryonS
2、olidSurfacesInstituteofPhysicalChemistryZhejiangNormalUniversityMay2010嬲嬲磐必多孑LSn02Cu20復(fù)合薄膜的制備及其光催化性能摘要氧化物半導(dǎo)體多相光催化技術(shù)在治理環(huán)境污染和太陽能利用方面具有廣泛的應(yīng)用前景,光催化劑的制備是該技術(shù)的關(guān)鍵課題之一:復(fù)合半導(dǎo)體通過組合具有不同能帶結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體材料,利用窄隙半導(dǎo)體敏化寬隙半導(dǎo)體,而且利用兩種半導(dǎo)體之間的能級差能使光生載流子
3、由一種半導(dǎo)體能帶注入到另外一種半導(dǎo)體的能帶中,使光生載流子能夠有效分離,能夠延長載流子的壽命,提高量子效率。本文以304型不銹鋼片為基底,陰極氫氣泡作為動態(tài)模板,電沉積制備多孔SnCu合金,在空氣氣氛下加熱氧化制得三維多孑L的Sn02Cu20復(fù)合氧化物薄膜。通過x射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、能量失散x射線譜(EDS)等方法,表征了合金及復(fù)合氧化物薄膜的結(jié)構(gòu)、形貌和組成;以羅丹明(Rha)為模型反應(yīng)體系,125W熒光汞燈
4、為光源,考察了多孔復(fù)合氧化物薄膜光催化降解有機(jī)物的性能,探討了制備條件對薄膜表面形貌、結(jié)構(gòu)及光催化性能的影響規(guī)律。主要研究內(nèi)容和結(jié)果如下:1電沉積參數(shù)(鍍液組成、電流密度、溫度、酸度)對SnCu合金薄膜結(jié)構(gòu)和形貌的影響。結(jié)果表明,組成為005mol/LSnS04、00025~05mol/LCuS04、15mol/LH2S04、70mL/L甲醛和0001%聚乙二醇辛基苯基醚的鍍液中,電流密度范圍為25~60A/cm2,可得到具有三維多孔形
5、貌的SnCu合金。合金的最外層孔徑約為10~50Ixm,孔壁由亞微米的顆粒堆積而成。鍍層的結(jié)構(gòu)、形貌和組成與鍍液濃度和電流密度有關(guān)。鍍層主要由金屬Sn和Cu構(gòu)成,當(dāng)鍍層中Sn/Cu為3:1時,還有較多的Cu6Sn5金屬間化合物存在。2SnCu合金熱氧化的條件參數(shù)(溫度及時間)的影響。結(jié)果表明,三維多孔的合金薄膜經(jīng)過空氣氣氛中200℃2h后再于400℃2h加熱氧化,完全轉(zhuǎn)變?yōu)楸砻嫘蚊布癝n/Cu比與金屬薄膜相似的Sn02Cu20復(fù)合氧化物
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